除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿　小流量も可

PRサンセップなら、純水を流すだけでガスの加湿が可能！

【サンセップによるガスの加湿方法】 方法１． 純水 　供給する純水の温度でガスを水蒸気飽和させることができます。 方法２． 湿潤ガス(無給水加湿) 　供給する湿潤ガスと同等の湿度までガスを加湿できます。 　空気中の水分量と同じくらいまで加湿したいときに便利！ 【サンセップ加湿の特徴】 ■ガス成分を損なわない 非多孔膜を使用して加湿を行うため、ガス成分を失うことなくガスの加湿...

メーカー・取り扱い企業： ＡＧＣ株式会社 化学品カンパニー

フラッシュクロマトグラフィー『Pure C-900』

まだオープンカラム？フラッシュクロマトへのエントリーモデルがBUCHI…

トグラフィーです。 オープンカラムによる分取精製は思っている以上に時間も手間もかかるもの。 当製品はシンプルで使いやすく、分取精製の効率を大幅にアップさせます。 最大流量300mL/min、耐圧50barのパワフルなポンプを備え、1回の分取精製に かかる時間の目安はおおよそ0.5～1時間となっております。 【特長】 ■導入しやすい価格 ■手軽な充てん済みカートリッジ ...

メーカー・取り扱い企業： 日本ビュッヒ株式会社

分取クロマトグラフィー　グラジエント用 ２ポンプシステム

２台のポンプをコントロール。時間と溶媒消費量を自動計算。

。 ■ セラミックピストン →ピストンはセラミック仕様になっており、 　耐薬品性が優れ、バイオ分野への応用も可能です。 ■ パワフルで静か →コンパクトな大きさで、最大流量250ｍｌ/min、最大圧力5.0MPa 　（C-601は1.0MPa）と驚くべき性能を秘めています。 ■ スピーディーな精製処理 →オープンカラムから“セパコア”へ 　精度よく・廃液溶媒が少なく・驚くほど...

メーカー・取り扱い企業： 日本ビュッヒ株式会社

分取クロマトグラフィー　アイソクラティック用 1ポンプシステム

省スペースなコンパクト設計で高性能のベーシックセット

。 ■ セラミックピストン →ピストンはセラミック仕様になっており、 　耐薬品性が優れ、バイオ分野への応用も可能です。 ■ パワフルで静か →コンパクトな大きさで、最大流量250ｍｌ/min、最大圧力5.0MPa 　（C-601は1.0MPa）と驚くべき性能を秘めています。 ■ スピーディーな精製処理 →オープンカラムから“セパコア”へ 　精度よく・廃液溶媒が少なく・驚くほど...

メーカー・取り扱い企業： 日本ビュッヒ株式会社