除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿　小流量も可

PRサンセップなら、純水を流すだけでガスの加湿が可能！

【サンセップによるガスの加湿方法】 方法１． 純水 　供給する純水の温度でガスを水蒸気飽和させることができます。 方法２． 湿潤ガス(無給水加湿) 　供給する湿潤ガスと同等の湿度までガスを加湿できます。 　空気中の水分量と同じくらいまで加湿したいときに便利！ 【サンセップ加湿の特徴】 ■ガス成分を損なわない 非多孔膜を使用して加湿を行うため、ガス成分を失うことなくガスの加湿...

メーカー・取り扱い企業： ＡＧＣ株式会社 化学品カンパニー

超小型窒素発生装置　SUF-500

超小型で電源不要！卓上使用や組込用途に適した窒素発生装置

【仕様】 ○窒素純度(%)　99.0 ／ 99.5 ○発生窒素量(NL/min)　1.2 ／ 0.7 ○供給空気圧力（MPa）　0.6 ○供給空気量（NL/min)　8 ／ 7 ○質量(kg)　約 2 ○外形寸法(mm)　H 190 × W 180 × D 150 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サタコ

高圧窒素富化ガス発生装置『HND-4640D』※事例進呈

【デモ機相談可能】100V電源で使用可。持ち運びやすくボンベ交換も不要…

、0～2.4、4.5(MPa)の3種類の吐出圧力に対応 ■予備用高圧タンク、専用消音BOXのオプションあり ■現場への持ち運びが簡単で、省力化に貢献 ■露点温度-40℃（吐出流量・50NL/min） ■専用窒素ユニット追加で窒素濃度99.0％以上（オプション） ★事例資料と製品紹介資料を進呈中！ 　詳しくは「PDFダウンロード」よりご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サタコ

高圧窒素富化ガス発生装置『HND-RA』※作業事例も紹介中

【デモ機相談可能】100V電源で使用可。持ち運びやすくボンベ交換も不要…

1.0、0～2.4、4.5(MPa)の3種類の吐出圧力に対応 ■予備用高圧タンク、専用消音BOXのオプションあり ■現場への持ち運びが簡単で、省力化に貢献 ■露点温度-40℃（吐出流量・40NL/min） ■専用窒素ユニット追加で窒素濃度99.0％以上（オプション） ★作業事例も載った製品紹介資料を進呈中！ 　詳しくは「PDFダウンロード」よりご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。 ※...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サタコ

【事例】空調・冷媒配管気密試験作業

昇圧作業をしている時は他の作業を行う事が出来工事の効率化が図れる！

PDF資料にて、作業手順をご紹介しております。 【気密試験作業用装置仕様】 ■高圧窒素富化ガス発生装置 ■吐出圧カ：4.5MPa ■窒素濃度：85％以上 ■窒素吐出量：55NL/min ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サタコ