除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

バックターン洗浄機　自動戻りシステム搭載！

PR洗浄後にワークが自動的に戻ってくるため、一人での作業を実現！移動範囲も…

バックターン洗浄機は、洗浄出口からワークの自重でコンベヤに落下し戻ってくる方式で、複雑な制御装置が要らず一人作業で、コスト削減が見込める洗浄システムとなっております。 掲載画像寸法：1,350(H)×1,813(W)×4,800(L)mm。 ※コンベヤー部も含めた寸法です。 ※お客様の仕様により寸法は変わります。 ※乾燥機を装備する事も可能です。 【特長】 ■一人作業でコスト削...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒタカ精機

メタロールポンプ『RX-3』

精密微量塗布可能！

【仕様】 ■テフロンチューブ（φ1.4×φ2.0）：1.2cc/min ■シリコンチューブ（φ2.0×φ4.0）：20cc/min ■ローラー回転数（0～MAX）：120rpm ■正・逆回転：可 ■吐出量タイマー：デジタル ■液ギレ機能：負圧機能付 ■適...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日興エンジニアリング

ポンプ『RVP-20』

低粘度の液体の充填・移送等に適しています！

【仕様】 ■吐出量：1200ml/min ■分解能：10μl ■計量ピストン径：φ12 ■最大ストローク：45mm ■吐出速度：20ml ■再現精度：±1%以内 ■適応粘度（MAX）：10000CPS ■駆動源：ステッピン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日興エンジニアリング

メタロールポンプ『MRP-IX』

低価格で高品質を実現！

【仕様】 ■テフロンチューブ（φ1.4×φ2.0）：0.8cc/min ■シリコンチューブ（φ2.0×φ4.0）：14cc/min ■ローラー回転数（0～MAX）：80rpm ■正・逆回転：可 ■吐出量タイマー：設定可 ■液ギレ機能：* ■適応粘度：30...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日興エンジニアリング