除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿　小流量も可

PRサンセップなら、純水を流すだけでガスの加湿が可能！

【サンセップによるガスの加湿方法】 方法１． 純水 　供給する純水の温度でガスを水蒸気飽和させることができます。 方法２． 湿潤ガス(無給水加湿) 　供給する湿潤ガスと同等の湿度までガスを加湿できます。 　空気中の水分量と同じくらいまで加湿したいときに便利！ 【サンセップ加湿の特徴】 ■ガス成分を損なわない 非多孔膜を使用して加湿を行うため、ガス成分を失うことなくガスの加湿...

メーカー・取り扱い企業： ＡＧＣ株式会社 化学品カンパニー

2波長レーザーミラー

2波長の高い反射率と耐久性を持つハイブリッドレーザミラー

0.010インチ (+0.00/-0.25mm)　 厚さ誤差: 　±0.010インチ (±0.25mm)　 面取り: 　<0.5mm @45° typical　 ウエッジ:　 ≤5 arc min　 コーティング技術: 　e-ビーム　誘電体多層膜　 反射率: 2波長YAGレーザーミラー: 　反射率R>99.0% for both 532/1064nm　 Laser Mirror w...

メーカー・取り扱い企業： FITリーディンテックス株式会社

高エネルギーレーザー用　ハーモニック　ビームスプリッター

レーザーの基本波と高調波を分離するビームスプリッター

er mm @633nm 　 厚さ:　 レギュラープレート　ウインドウ　0.25" ±0.01" 　 超薄型プレート　ウインドウ　0.15mm ±0.02mm　 偏角: 　±3 arc min　 ベベル: 　<0.5mm @45˚ typical　　 反射率:　 1st 面: 　R≥99.5% 指定の波長　　 2nd 面: 　ARコーティング　 Rp≤0.25%,　 Runp≤...

メーカー・取り扱い企業： FITリーディンテックス株式会社

高出力レーザー用　プレート　ビームスプリッター

高出力レーザー用の板状のビームスプリッター

-0.010インチ (+0.00/-0.25mm)　 厚さ誤差: 　±0.010インチ (±0.25mm)　 面取り: 　<0.5mm @45° typical　 ウエッジ:　≤5 arc min　 コーティング: 　E-ビーム　誘電体多層膜　 入射角: 　45°　 2nd 面: 　ARコーティング　 ダメージしきい値: 　10J/cm2, 20ns, 20Hz; 1MW/cm...

メーカー・取り扱い企業： FITリーディンテックス株式会社

直角プリズム(ライトアングル)　プリズム　ミラー

直角プリズムを全反射鏡として使用します。

径: 　>85% スクラッチ　ディグ: 　UV 溶融石英　10-5 , BK7　20-10 表面フラットネス: 　溶融石英、BK7　λ/10 @633nm 　 角度変位: 　±3 arc min 面取り: 　<0.5mm @45˚ typical 反射率: 　R≤0.25% for V-coatViewer, R<0.5% for BBAR...

メーカー・取り扱い企業： FITリーディンテックス株式会社

レーザーオプティックスのためのフラットミラー基板

誘電体レーザーミラーや、メタルコートのために精密フラット　ミラー基板

: 　コマーシャル研磨 直径誤差: 　+0.000/-0.010インチ (+0.00/-0.25mm) 厚さ誤差: 　±0.010インチ (±0.25mm) ウエッジ: 　≤5 arc min べーベル: 　<0.5mm @45° typical ...

メーカー・取り扱い企業： FITリーディンテックス株式会社