• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿 小流量も可 製品画像

    加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿 小流量も可

    PRサンセップなら、純水を流すだけでガスの加湿が可能!

    【サンセップによるガスの加湿方法】 方法1. 純水  供給する純水の温度でガスを水蒸気飽和させることができます。 方法2. 湿潤ガス(無給水加湿)  供給する湿潤ガスと同等の湿度までガスを加湿できます。  空気中の水分量と同じくらいまで加湿したいときに便利! 【サンセップ加湿の特徴】 ■ガス成分を損なわない 非多孔膜を使用して加湿を行うため、ガス成分を失うことなくガスの加湿...

    メーカー・取り扱い企業: AGC株式会社 化学品カンパニー

  • 【技術資料】物質の結晶化プロセスの発熱特性 LIB-06 製品画像

    【技術資料】物質の結晶化プロセスの発熱特性 LIB-06

    ラミネートフィルムに充填された物質の結晶化プロセスの発熱特性の技術資料

    鉄片を変形させて結晶化を スタートする代わりに、たね結晶を投入して結晶化させています。 【掲載内容(一部抜粋)】 ■Fig-01:エコカイロの発熱曲線 ■Fig-02:結晶化開始から3min40secの生データの熱流曲線と温度曲線 ■Fig-03:結晶化開始から14min間の時定数補正度の熱流曲線と温度曲線 ■Fig-04:結晶化開始から4.5時間の熱流曲線と温度曲線 ほか ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社パルメトリクス

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