• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿 小流量も可 製品画像

    加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿 小流量も可

    PRサンセップなら、純水を流すだけでガスの加湿が可能!

    【サンセップによるガスの加湿方法】 方法1. 純水  供給する純水の温度でガスを水蒸気飽和させることができます。 方法2. 湿潤ガス(無給水加湿)  供給する湿潤ガスと同等の湿度までガスを加湿できます。  空気中の水分量と同じくらいまで加湿したいときに便利! 【サンセップ加湿の特徴】 ■ガス成分を損なわない 非多孔膜を使用して加湿を行うため、ガス成分を失うことなくガスの加湿...

    メーカー・取り扱い企業: AGC株式会社 化学品カンパニー

  • PSA式窒素ガス発生装置 TNシリーズ 製品画像

    PSA式窒素ガス発生装置 TNシリーズ

    高純度(99.99%)の装置で発生量20%アップ! 業界No.1の性能

    窒素ガス純度:99~99.999% 窒素ガス発生量:5.4~45NL/min 吐出圧力:0.35MPa~0.42MPa ※詳細は仕様をご確認下さい ...

    メーカー・取り扱い企業: 京都理化学器械 株式会社 本社

  • PSA式窒素ガス発生装置 SLMシリーズ 製品画像

    PSA式窒素ガス発生装置 SLMシリーズ

    未来志向の技術で一新、すべての性能を大幅にアップさせ、極限まで小型スリ…

    窒素ガス純度:99~99.999% 窒素ガス発生量:8~43NL/min 吐出圧力:0.5MPa~0.55MPa ※詳細は仕様をご確認下さい ...

    メーカー・取り扱い企業: 京都理化学器械 株式会社 本社

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