除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿　小流量も可

PRサンセップなら、純水を流すだけでガスの加湿が可能！

【サンセップによるガスの加湿方法】 方法１． 純水 　供給する純水の温度でガスを水蒸気飽和させることができます。 方法２． 湿潤ガス(無給水加湿) 　供給する湿潤ガスと同等の湿度までガスを加湿できます。 　空気中の水分量と同じくらいまで加湿したいときに便利！ 【サンセップ加湿の特徴】 ■ガス成分を損なわない 非多孔膜を使用して加湿を行うため、ガス成分を失うことなくガスの加湿...

メーカー・取り扱い企業： ＡＧＣ株式会社 化学品カンパニー

DSC 214 polyma / 示差走査熱量計

ポリマーの効率的特性解析システム

高速応答コロナセンサーと低熱量アリーナファーネスを組み合わせることにより、一般的な熱流速DSCでは実現不可能であった最大昇温･冷却速度500℃ /minを達成。優れた冷却機能によりポリマーの結晶化測定も可能。装置はコンパクト設計で場所を選ばず、試料数20組の自動測定・解析可能なオートサンプルチェンジャーの搭載によりルーチン測定にも最適です。...

メーカー・取り扱い企業： ネッチ・ジャパン株式会社

DSC 300 Caliris / 示差走査熱量測定装置

市場で最も包括的で信頼性が高く、多目的な材料特性評価用DSC！

■最高温度：600～750℃ ■温度精度：± 0.05～± 0.1 ■昇温/冷却速度：0.001～ 500K/min ■LN2冷却最低温度：-170°C/min ...

メーカー・取り扱い企業： ネッチ・ジャパン株式会社

ARC 244･305 / 断熱型暴走反応熱量計

熱安全性評価のためのキーツール

【仕様】 ■ 温度範囲：室温～ 500℃ ■ 標準圧力範囲：0 ～ 150bar ■ 最大追従速度：20 ～ 200K/min

メーカー・取り扱い企業： ネッチ・ジャパン株式会社