• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿 小流量も可 製品画像

    加湿用膜モジュール『サンセップ』 空気・ガスの加湿 小流量も可

    PRサンセップなら、純水を流すだけでガスの加湿が可能!

    【サンセップによるガスの加湿方法】 方法1. 純水  供給する純水の温度でガスを水蒸気飽和させることができます。 方法2. 湿潤ガス(無給水加湿)  供給する湿潤ガスと同等の湿度までガスを加湿できます。  空気中の水分量と同じくらいまで加湿したいときに便利! 【サンセップ加湿の特徴】 ■ガス成分を損なわない 非多孔膜を使用して加湿を行うため、ガス成分を失うことなくガスの加湿...

    メーカー・取り扱い企業: AGC株式会社 化学品カンパニー

  • 医薬品・食品業界向け 湿式集塵装置『RCW型/RCWN型』 製品画像

    医薬品・食品業界向け 湿式集塵装置『RCW型/RCWN型』

    ポンプ不要で高効率な集塵。目詰まりしにくいタイプなど。容量の種類も豊富

    【仕様】 ◎RCWN型(溜水式S字インペラ型) 処理ガス量(m3/min): 25、30、35、40、45、50、60、70、80、100 130、160、200、250、300、400、500、600 貯水量(L): 160、190、220、250、360、...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社了生

  • 非静電型溶接ヒューム集塵機(ヒュームコレクター) RY-M・H型 製品画像

    非静電型溶接ヒューム集塵機(ヒュームコレクター) RY-M・H型

    フィルター再利用で廃棄物ゼロ!発生ミスト・ヒュームを集中コントロール!

    【仕様】 <RY07-MF/RY07-HF> ■風量(m3/min):30 ■モーター(kW):0.75(200V) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社了生

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