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    適切な磁選機等の選定や設備の改善提案

    PR高機能素材を製造のお客様向け!異物問題を科学的に解決

    当社では、適切な磁選機等の選定や設備の改善提案を行っております。 扱うものや用途や環境が変われば好適な異物除去方法は変わります。 特に高いレベルでの異物除去を求められる「高機能素材」では、一筋縄ではいきません。 マグネテックジャパンは、「自動化や高効率化は不可能だと思っている」 「高いクオリティの製品を作るために、より微細な異物除去方法を模索している」 などの異物問題を科学的に解...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マグネテックジャパン 本社

  • 【人手に頼っていた重筋作業を改善】段ボールケース開梱・取出し装置 製品画像

    【人手に頼っていた重筋作業を改善】段ボールケース開梱・取出し装置

    PR【人手に頼っていた重筋作業を改善】原料段ボールケースの開梱と原料の取り…

    [重労働な原料段ボールケースの開梱作業] 食品工場での原料の荷捌き工程は、重量物の取り扱いや作業環境による身体の負担、怪我の心配があり、省人化及び労務改善の観点から自動化を求める声が高まってきています。また、開梱時に段ボール自体をカットすると紙粉が発生しやすく、紙粉は異物混入の原因になり得ます。 [自動で開梱、原料の取り出し、空ケース排出をコンパクトに] 本装置は、食品原料入りの段ボール...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ニッコー

  • 【アルゴンガスを使用のイオン化】アンビエントイオン源『DCDI』 製品画像

    【アルゴンガスを使用のイオン化】アンビエントイオン源『DCDI』

    固・液・気体サンプルを前処理なく手軽に測定できます

    『DCDI』は、イオン化法(特開2017-045571)を利用したイオン源です。 アルゴンガスを用いながらも、ヘリウムガスを使用したDARTイオン化法 と極めて類似したイオン化が可能です(サンプルによって異なります)。 固・液・気体サンプルを前処理なしにかざすだけで測定ができ、 手軽でフレキシブルなアンビエントイオン源としてもご活用いただけます。 【システム構成】 ■インタ...

    メーカー・取り扱い企業: エーエムアール株式会社 本社・ラボセンター

  • ナノUHPLCカラム『Aurora Generation 3』 製品画像

    ナノUHPLCカラム『Aurora Generation 3』

    分離能・スループット・再現性が向上nanoZeroとエミッタ一体型構造…

    『Aurora Generation 3』は、より多くのペプチドを結合できるようになり、 少ないサンプル量でも高分離能で優れた同定結果を得ることが可能な ナノUHPLCカラムです。 さらに独自設計の「nanoZero」デザインにより、デッドボリュームを除去し、 耐圧>1,700barの高耐圧も実現しました。 エミッタ一体型のカラムデザインは、異なるカラムや製造バッチ間でも より...

    メーカー・取り扱い企業: エーエムアール株式会社 本社・ラボセンター

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    M3エミッター

    先端のマルチノズルによりマイクロフローのスループットと高感度化を実現す…

    当製品は、先端に8本もしくは5本のノズルをもつ独自設計の エミッターです。 単一のマイクロフローをマルチノズルで複数のナノフローに均等に 分割することで、イオン化効率を劇的に向上させ、堅牢性、 スループットを実現します。 1~40μL/minの流量範囲に対応し、流量に合わせて10/20μmの内径や、 5/8本のマルチノズルなど各サイズのエミッターをラインアップ。 【ライン...

    メーカー・取り扱い企業: エーエムアール株式会社 本社・ラボセンター

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    PepSepカラム

    優れた堅牢性と再現性、各社イオン源への接続が可能

    『PepSepカラム』はペプチドの分離に適したなカラムです。 様々なプロテオミクスアプリケーションをカバーするラインナップを 提供しており、ユーザーのあらゆるクロマトグラフィのニーズに 対応することができます。 様々なUHPLCシステムで使用でき、HPLCシステムとエミッターとの接続も 簡便に行うことができます。 【ラインアップ】 ■PepSepULTRA ■PepSe...

    メーカー・取り扱い企業: エーエムアール株式会社 本社・ラボセンター

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    LOTUS Emitter

    疎水性コーティングによりメニスカスが内径に固定され、低電圧とイオン化効…

    『LOTUS Emitter』は、表面に疎水性処理が施されている エレクトロスプレーエミッターです。 メニスカスは先端のエミッター内径部に固定され、蒸発が少なく 低電圧でイオン化効率が良く、より安定したスプレーを実現します。 また、独自の微細加工プロセスによる鋭角かつ非常に厳しい公差で 製造されたエミッター形状で安定したスプレーを生成する、 「Sharp Singularity...

    メーカー・取り扱い企業: エーエムアール株式会社 本社・ラボセンター

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