マイルドプラズマの特長

経年変化なし！プラズマ照射処理で親水・疎水基の密度をコントロール

が可能で、 素材への物理的ダメージを与えません。 【特長】 ■表面に高密度の官能基生成 ■特殊な構造の架橋層生成による官能基の退行を防ぐ ■プラズマエネルギーがマイルドであり、表面エッチングが少ない ■使用可能なガスの種類に制限がない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： エステック株式会社

『真空プラズマ照射装置』

細胞と接する面を細胞にやさしく表面改質！親水・疎水基の密度コントロール

な条件で処理が可能です。 様々な材料に対し、目的に最適なプラズマ照射条件を見出します。 また、受託処理も承っております。 【特長】 ■強力で均一な照射が可能で処理ムラがない ■エッチング効果が少なく、材料への物理的ダメージがほとんどない ■高密度の官能基が生成でき、接着剤を用いない直接接合が可能 ■官能基の退行が極めて少ない ■ガス使用量が極めて少ない ※詳しくはP...

メーカー・取り扱い企業： エステック株式会社