注入口装置『LVI-S200』

独自開発の新型インサートが可能にする迅速・高感度分析

　・コールドスプリット 　・コールドスプリットレス 　・オンカラム 　・大量注入 　・誘導体化注入 ■加熱方法：ホットエアー式 ■温度制御範囲：40℃～300℃　（室温25℃、カラムオーブン50℃） ■最大昇温速度：150℃/min ■冷却速度：300℃→50℃/3min ■コントロール：コントローラーボックス（ソフトウェアによりパーソナル 　コンピューターからの操作が可能）...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイスティサイエンス