反射用レプリカ解析システム『ASA-03RXD』

スピーディで豊富な解析項目と、簡便な操作性を実現！高精度な測定が可能

ジタル画像処理により、高精度な測定ができる 反射用レプリカ解析システムです。 採取したレプリカに平行光を角度30度で照射する事により、得られる キメ・シワ等の形状に応じた陰影画像をCCDカメラで撮像。専用解析ソフトで 画像処理する事によりキメ・シワ等の形状、定量解析を行います。 シワでは得られた解析画像を基に深度に応じて色が変化するため、 合成画像による深度の変化が捉えやすく...

メーカー・取り扱い企業： 日本アッシュ株式会社 本社