• CKD 窒素ガス精製ユニット『NSシリーズ』 製品画像

    CKD 窒素ガス精製ユニット『NSシリーズ』

    PR圧縮空気を供給するだけで手軽に「窒素(N2)」を精製!もう大規模な設備…

    『NSシリーズ』は、食品の加工や包装工程、レーザー加工機などに使用される窒素ガスを 圧縮空気から高純度に分離精製する窒素ガス精製ユニットです。 簡単に連結ができるモジュール設計を取り入れ、フィルタ類やレギュレータ、 絞り弁などの機器をコンパクトにシステム化が可能です。 また、精製は膜分離式のため電源が不要で、防爆雰囲気や異電圧地域でも使用でき、 電気ノイズや発熱、駆動音等にかかわる問...

    メーカー・取り扱い企業: CKD株式会社

  • 【事例】ノーマリーオフ型GaN HEMT 二次元電子ガス層評価 製品画像

    【事例】ノーマリーオフ型GaN HEMT 二次元電子ガス層評価

    製品調査の複合解析をワンストップでご提案可能です

    GaN系高電子移動度トランジスタ「GaN HEMT(High Electron Mobility Transistor)」は、AlGaN/GaNヘテロ構造によって二次元電子ガス層(2DEG)が得られ、電子移動度が高くなります。その特性を用いて急速充電器などで活用されています。 本資料では、ノーマリーオフ型のGaN HEMTデバイスを解体・評価しました。 分析手法を複合的に活用し、試料の総合的な...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 【分析事例】半導体基板中軽元素の高感度分析 製品画像

    【分析事例】半導体基板中軽元素の高感度分析

    SIMS分析によりH, C, N, O, Fなどを1ppm以下まで評価…

    他手法では評価が難しい半導体基板中のH,C,N,Oを1ppm(約5E16atoms/cm3)以下まで、Fを1ppb(約5E13atoms/cm3)以下の濃度まで検出可能です。実際のFZ-Si中における測定例(図1)とIII-V族半導体のバックグラウンドレベルを紹介します(表2)。III-V族半導体以外にも、金属膜・絶縁膜など各種材料で標準試料をとりえ揃えており、高感度な定量分析が可能です。半導体基...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 【分析事例】揮発性有機化合物(VOC)P&Tによる微量成分の検出 製品画像

    【分析事例】揮発性有機化合物(VOC)P&Tによる微量成分の検出

    GC/MS:ガスクロマトグラフィー質量分析法

    揮発性有機化合物(VOC)は、半導体や工業製品の洗浄時に使用され、洗浄用水等に極微量で含まれる可能性があります。水中のVOCは、極微量であっても臭気の原因になることや健康被害を引き起こすことが懸念されることから、環境基準値や排水基準値が定められ、低濃度まで測定可能な手法が必要とされています。本事例では、P&T(パージ&トラップ)で濃縮した成分をGC/MSに導入することによって、水中の微量なVOC成...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

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