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揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介!
『アンラスト RC-2』は、ガラスやドライフィルムなどの対象物に 適用可能な、工業用洗浄剤です。 揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要。 フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能です。 【特長...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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浸漬法、スプレー法に対応!苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品をご紹介
『アンラスト RW-C』は、樹脂に対して強力な剥離、洗浄性があり、 浸漬法、スプレー法に対応可能なフォトレジスト剥離液です。 ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離用途に好適。 苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品です。 【処理条件】 ■濃度:原液処理 ■温度:50~70℃ ■時間:5分前後 ※詳しくは...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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