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ウェハ用洗浄槽の水酸化アンモニウム、過酸化水素、塩酸の同時分析をインラ…
半導体メーカーではクリーンルーム内のウェットベンチで標準的な洗浄工程を行い、環境を管理し、さらなる汚染を防いでいます。しかし、このような環境では分析装置を設置するためのスペースが非常に限定的であることが一般的です。 試薬を使わず、より安全で効率的、かつ迅速に洗浄液の主要パラメータを同時にモニタリングするには近赤外分光法(NIRS)によるインライン分析が有効です。 オンライン分析計 プロセス分析...
メーカー・取り扱い企業: メトロームジャパン株式会社
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