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◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…
PC側でのレシピ作成→装置へアップロード可能 ・最大試料サイズ：40 x 40mm：銅（ニッケル）箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板，他 ◆Model. nanoCVD-8G（グラフェン用）◆ ・グラフェン生成用，真空プロセス制御 ・ロータリーポンプ標準付属（オプション：TMP, Diffusion or Dry Pump） ・ガス供給3系統（標準） ・試料加熱ステージ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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