• 【錠剤の賦形剤として使用可能】フランス ARMOR社 乳糖水和物 製品画像

    【錠剤の賦形剤として使用可能】フランス ARMOR社 乳糖水和物

    GMP管理された医薬品製造工場で製造。錠剤の賦形剤として使用可能です。

    1M /350M ■造粒乳糖 打錠時に偏析がなく、吸湿の影響を受けにくい安定した特性を持ち、直接打錠法やハードカプセル剤に適しております。 取り扱いグレード:150GR ■スプレードライ乳糖 流動性と成形性を兼ね備えており、直接打錠法に適しております。 取り扱いグレード:SD2 ※その他製品詳細につきましてはお気軽にお問い合わせください。 ≪ 第14回...

    • 錠剤.png

    メーカー・取り扱い企業: 島貿易株式会社

  • 素材『濃縮黒酢粉末』 製品画像

    素材『濃縮黒酢粉末』

    黒酢の本場・鹿児島県霧島市福山町大切に造られた黒酢を使用

    『濃縮黒酢粉末』は、玄米黒酢を、濃縮後、スプレードライ乾燥 した粉末です。 酢酸などの有機酸をはじめ、各種のアミノ酸を豊富に含み、脂質代謝や 改善作用、赤血球変形機能改善作用、抗アレルギー作用、血圧調節作用、 血糖調節作用といった効果...

    メーカー・取り扱い企業: サントレック株式会社

  • レジスト剥離液『アンラスト M6』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト M6』

    ポジ型レジストの剥離用途に!浸漬法、スプレー法に対応できます

    『アンラスト M6』は、有機アルカリタイプでアルミ基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 20kg缶/ドラム/ローリーでご用意。 ドライフィルム、ポジレジストを対象物とし、浸漬法、スプレー法に 対応できます。 【処理条件】 ■濃度:原液又は純水にて希釈 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • フォトレジスト剥離液『アンラスト RW-C』 製品画像

    フォトレジスト剥離液『アンラスト RW-C』

    浸漬法、スプレー法に対応!苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品をご紹介

    『アンラスト RW-C』は、樹脂に対して強力な剥離、洗浄性があり、 浸漬法、スプレー法に対応可能なフォトレジスト剥離液です。 ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離用途に好適。 苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品です。 【処理条件】 ■濃度:原液処理 ■温度:50~70℃ ■時間:5分前後 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...【...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • レジスト剥離液『アンラスト M10』 製品画像

    レジスト剥離液『アンラスト M10』

    浸漬法、スプレー法にも対応!基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良…

    『アンラスト M10』は、処理方法として浸漬法、スプレー法にも対応した レジスト剥離液です。 20kg缶/ドラム/1tコンテナ/ローリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を 防止できます。 【処理条件】 ■濃度:原液処理又は純水にて希釈使用 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

  • フォトレジスト剥離液『アンラスト M601』 製品画像

    フォトレジスト剥離液『アンラスト M601』

    浸漬法、スプレー法に対応!浸透性が高いため、細部まで剥離が可能!

    『アンラスト M601』は、有機アルカリタイプでアルミ基板にも使用可能な フォトレジスト剥離液です。 20kg缶/ドラムでご用意しています。 浸透性が高いため、細部まで剥離が可能。浸漬法、スプレー法に対応できます。 【処理条件】 ■濃度:原液 ■温度:常温~70℃ ■時間:20~90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...【その他...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所

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