高速成膜装置

ＭＥＭＳ製造の犠牲層・光導波路などへ

無機フィルムの高速製膜装置。デモ実験など承っております。お気軽にご相談下さい。...【特徴】 ○ＰＥＮフィルム上に製膜 ○製膜速度：～1.5μm/min ○製膜温度：75℃～ ○段差被服性：良好 ○製膜種：無機合成膜 （SiO２膜の形成も可能） ●その他詳細についてはカタログをご覧頂くか、もしくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体