【HTK 1200】XRD装置用高温チャンバー

試料を均一に加熱できる1200 ℃高温チャンバー 自社装置はもち…

り試料を均一に温度制御できます。 サンプル回転オプションを装着すれば、反射配置の回折データ品質が向上し、プロファイルフィッティングがやりやすくなります。温度センサーは保護⽤セラミックサンプルホルダー内の試料の真下に配置されており、信頼性が⾼く再現性のある温度測定を保証します。 キャピラリーエクステンションを使⽤すると、透過配置での測定が可能になります。試料のタイプや測定目的に応じて様々...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アントンパール・ジャパン

【TTK 600】XRD装置用中低温チャンバー

-190℃～600℃で温度制御できる中低温チャンバー 自社装置はもちろ…

-190℃～600℃で温度制御にて反射、透過、キャピラリー等の様々なサンプルホルダーを装着可能な多目的中低温チャンバーです。 液体窒素を使用して-190℃～600℃の温度制御を行うことができます。（圧縮空気のみの冷却では-20℃～600℃） グローブボックス内でアンテ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アントンパール・ジャパン