株式会社アントンパール・ジャパン 【TTK 600】XRD装置用中低温チャンバー
- 最終更新日:2024-01-09 14:42:28.0
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-190℃~600℃で温度制御できる中低温チャンバー 自社装置はもちろん、他社製XRD装置にもOEM製品として装着可能
-190℃~600℃で温度制御にて反射、透過、キャピラリー等の様々なサンプルホルダーを装着可能な多目的中低温チャンバーです。
液体窒素を使用して-190℃~600℃の温度制御を行うことができます。(圧縮空気のみの冷却では-20℃~600℃)
グローブボックス内でアンティチェンバーへ試料をマウントすれば、試料を大気曝露せずにチャンバー本体に装着してすぐに測定開始できます。吸湿性のある試料のin-situ XRD測定に最適です。
過熱防止機構により、ハウジング温度が70℃を超えると自動的に加
基本情報【TTK 600】XRD装置用中低温チャンバー
代表的なアプリケーション
・構造解析
・温度膨張係数
・相図の調査
・化学反応研究
・動的構造変化の観測
・格子定数測定
温度範囲 : -190 °C ~ 600 °C
圧力範囲 :≤ 10-4 mbar ~ 2 bar rel.
雰囲気 :空気、 真空、 不活性ガス
価格情報 | 500 ~600万円 |
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価格帯 | 500万円 ~ 1000万円 |
納期 | お問い合わせください |
型番・ブランド名 | TTK 699 |
用途/実績例 | ❶鉱物 ❷医薬品 ❸化学品 ❹金属及び合金 ❺建築資材 ❻ナノマテリアル ❼電池 ❽食品サンプル ❾コロイド及び生物学的サンプ |
カタログ【TTK 600】XRD装置用中低温チャンバー
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