【TTK 600】XRD装置用中低温チャンバーアントンパール・ジャパン

-190℃～600℃で温度制御できる中低温チャンバー自社装置はもちろん、他社製XRD装置にもOEM製品として装着可能

-190℃～600℃で温度制御にて反射、透過、キャピラリー等の様々なサンプルホルダーを装着可能な多目的中低温チャンバーです。

液体窒素を使用して-190℃～600℃の温度制御を行うことができます。（圧縮空気のみの冷却では-20℃～600℃）

グローブボックス内でアンティチェンバーへ試料をマウントすれば、試料を大気曝露せずにチャンバー本体に装着してすぐに測定開始できます。吸湿性のある試料のin-situ XRD測定に最適です。

過熱防止機構により、ハウジング温度が70℃を超えると自動的に加

アントンパール社　ホームページ

基本情報【TTK 600】XRD装置用中低温チャンバー

代表的なアプリケーション
・構造解析
・温度膨張係数
・相図の調査
・化学反応研究
・動的構造変化の観測
・格子定数測定

温度範囲 : -190 °C ～ 600 °C
圧力範囲 :≤ 10-4 mbar ～ 2 bar rel.
雰囲気 :空気、真空、不活性ガス

価格情報	500 ~600万円
価格帯	500万円 ~ 1000万円
納期	お問い合わせください
型番・ブランド名	TTK 699
用途／実績例	❶鉱物 ❷医薬品 ❸化学品 ❹金属及び合金 ❺建築資材 ❻ナノマテリアル ❼電池 ❽食品サンプル ❾コロイド及び生物学的サンプ