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    ピュアスチーム発生装置

    PR省スペースを実現。ピュアスチーム発生量に比例して供給水量を制御。

    本装置は、独自に開発した高効率の上昇流下液膜方式の蒸発缶を採用。 さらに、独自の圧力制御(予測制御)により発生蒸気圧力を安定して供給することが可能です。 SUS316L+EP仕様でピュアスチーム発生量ごとにラインアップしております。 【特長】 ■蒸発缶と気液分離缶を一体化させることで省スペースを実現 ■始動より定格運転までの立上がりが早い ■飛沫同伴が生じないサイクロン方式の気液分...

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    メーカー・取り扱い企業: クリーンメカニカル株式会社 本社

  • ウェット式拭き取り材『ベルクリン シリーズ』 製品画像

    ウェット式拭き取り材『ベルクリン シリーズ』

    PR微小異物も確実にキャッチ。電子機器の拭き取り、クリーンルーム内の清掃等…

    『ベルクリン シリーズ』は、微細気孔を有し吸水性、保水性にも優れたウェット式拭き取り材です。「ワイパー」としてはもちろん、さらに幅広く機能的に使用するための「モップタイプ」や「スワブタイプ」もラインアップしています。 ソフトな風合いにより、さまざまな対象にフィットし、表面の微細な気孔がパーティクルを確実にキャッチ。紙や繊維素材と異なり樹脂一体構造のスポンジ素材のため、毛羽立ちや糸屑の脱落が無...

    メーカー・取り扱い企業: アイオン株式会社

  • 【開発中】高速FCボンダ CB-2100(アスリートFA製) 製品画像

    【開発中】高速FCボンダ CB-2100(アスリートFA製)

    様々な工場のニーズに応える機能をラインアップ!小チップに特化した業界最…

    ダ)の製造で培ってきた要素技術と、 構造解析から得たデータを踏襲し、量産に対応。 卓上型の「CB-200」をはじめ、マニュアル式の「CB-505」やセミオート式の「CB-600」など をラインアップしております。 【特長】 ■チップトレイ対応 ■ヘッド先端自動クリーニング ■へパフィルタ及びイオナイザーの設置 ■多様なデバイス(5G/データ通信/RFID)への対応 ■マ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-160-S 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-160-S

    フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…

    量に因る):100K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):100K/min.(T=400℃>200℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■プロセスガス供給ライン:マスフローコントローラx1(最大流量:5nlm) ■コントローラ:タッチパネルコントローラSIMATIC TP-700 ■プロファイルプログラム登録数:最大50プログラム ■プログラムステ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RSO-200 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RSO-200

    金属の焼結にも使える最大昇温速度600K/min.の超高速昇温対応モデ…

    速度(対象物の熱容量に因る):200K/min.(T=650℃>400℃)、60K/min.(T=200℃>100℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■プロセスガス供給ライン:マスフローコントローラx1(最大流量:5nlm) ■コントローラ:7インチタッチパネルコントローラ(SIMATIC製 TP-700) ■プロファイルプログラム登録数:最大50プログラム ■...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-210-S 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-210-S

    フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…

    量に因る):240K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):120K/min.(T=400℃>200℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■プロセスガス供給ライン:マスフローコントローラx1(最大流量:5nlm) ■コントローラ:7インチタッチパネルコントローラ(SIMATIC製 TP-700) ■プロファイルプログラム登録数:最大50プログラム ■...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RVS-210 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RVS-210

    フラックスなどによりコンタミが多く発生してもメンテナンスが容易なモデル…

    量に因る):120K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):120K/min.(T=400℃>200℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■プロセスガス供給ライン:マスフローコントローラx1(最大流量:5nlm) ■コントローラ:7インチタッチパネルコントローラ(SIMATIC製 TP-700) ■プロファイルプログラム登録数:最大50プログラム ■...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応真空はんだリフロー装置 RSS-3×210-S 製品画像

    ギ酸・水素還元対応真空はんだリフロー装置 RSS-3×210-S

    対象物が大きい場合や同時作成にも適した、シリーズ最大の加熱プレートサイ…

    容量に因る):120K/min. ■最大降温速度(対象物の熱容量に因る):90K/min.(T=300℃>200℃) ■チャンバー真空耐久度:0.1Pa(10-3hPa) ■プロセスガス供給ライン:マスフローコントローラx1(最大流量:5nlm) ■コントローラ:7インチタッチパネルコントローラ(SIMATIC製 TP-700) ■プロファイルプログラム登録数:最大50プログラム ■...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

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