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小型設計ながら性能はキープ!高温での基板加熱が可能なスパッタ装置
【仕様】 ■到達真空度:1×10^-4 Pa以下 ■リーク量:1×10^-8 Pa・m3/sec以下(Oリング透過分を除く) ■排気系:TMP+ダイヤフラムポンプ(またはロータリーポンプ) ■真空計 フルレンジ真空計(コールドカソード+ピラニーゲージ) +キャパシタンスゲージ(オプション) ■基板ステージ:2インチ対応ステージ ■基板加熱温度:MAX500℃...
メーカー・取り扱い企業: アリオス株式会社
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