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    プラズマイオン注入成膜装置 PBII-R1000

    生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。

    プラズマイオン注入・成膜装置(Plasma Based Ion Implantation & Deposition:PBII&D)とは株式会社栗田製作所と産業技術総合総合研究所関西センター殿と共同で開発し、特許を取得特許第3555928号)した全く新しいプラズマイオン注入技術です。DLCコーティングも可能です。取扱いが容易な為、生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。 詳し...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部

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