生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。
プラズマイオン注入・成膜装置（Plasma Based Ion Implantation & Deposition:PBII&D）とは株式会社栗田製作所と産業技術総合総合研究所関西センター殿と共同で開発し、特許を取得特許第3555928号）した全く新しいプラズマイオン注入技術です。DLCコーティングも可能です。取扱いが容易な為、生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。
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基本情報プラズマイオン注入成膜装置 PBII-R1000
【特徴】
○試作開発から量産まで幅広い業務に対応
○ガスイオン注入、DLC成膜がこの1台で処理が可能
○金属から絶縁物まで成膜条件の変更で様々な材質へ処理が可能
○立上げから立下げまで全自動
○取扱いが容易な為、生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されている
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カタログプラズマイオン注入成膜装置 PBII-R1000
取扱企業プラズマイオン注入成膜装置 PBII-R1000
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電気電子機器製造販売 ○DLCコーティングサービス ○DLCコーティング用 プラズマイオン注入成膜装置 ○大気圧プラズマ発生用電源・装置 ○水中プラズマ発生用電源 ○各種パルス電源 ○高電圧パルスモジュレータ ○高電圧・大電流電源応用装置 ○発変電所用機器(遮断器・変成器等)組立配線
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