• ヘキサフルオロエタン C2F6  76-16-4  製品画像

    ヘキサフルオロエタン C2F6 76-16-4

    ヘキサフルオロエタン C2F6 76-16-4

    1.絶縁ガス、プラズマエッチング剤、高誘電率冷却剤として使用される。 2.マイクロエレクトロニクス産業において、プラズマエッチングガス、デバイス表面洗浄、光ファイバー製造、低温冷凍に使用される。 ヘキサフルオロエタンは、無毒、無臭、高安定性のため、半導体製造工程で広く使用されている,例えば、エッチャント(ドライエッチング)として。 化学蒸着(CVD、Chemical Vapor Deposit...

    メーカー・取り扱い企業: CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO

1〜1 件 / 全 1 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 0225_orionkikai_300_300_6.jpg
  • スリーエムヘルスケア300×300.jpg