• 廃水処理システム「AT-BCシステム」 製品画像

    廃水処理システム「AT-BCシステム」

    PR低コストで廃水処理能力を大幅に向上可能!廃水処理設備を止めることなく増…

    【増設】 「処理施設の能力不足」や「設置場所が無く増設が困難」といった悩みを AT-BC装置を既設槽上に載せるだけで一発解決!低コストで廃水処理能力を大幅に向上させることができます。活性汚泥法と回転生物接触法の2つの処理法を進化させた廃水処理システムです。 【特長】 ■廃水を止める事無く増設が可能 ■工期は2週間程度 ■既設槽上にAT装置を載せるだけで能力が倍以上に ■設備投資費用は2...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社バチルテクノコーポレーション

  • 乾湿粉体原料 連続式『混練・造粒機』※納入事例集進呈! 製品画像

    乾湿粉体原料 連続式『混練・造粒機』※納入事例集進呈!

    PR不等速2軸に各々配列の撹拌羽根で、付着性が高い対象物も効率よく混練・造…

     新日南『混練・造粒機』は、2500台以上の実績がある「ダウミキサー」ノウハウをもとに、製品化しました。    混練機『ダウミキサーPX型』は、回転速度が異なる2軸(不等速2軸)にらせん状配列の1条/2条巻の多様なパドル構成(複数特許取得)で、セルフクリーニング効果が常に作用して付着性が高い対象物でも効率よい混練効果と圧密効果が得られます。また、この作用で等速2軸式では避けられない、繰返し応力...

    • ダウペレ(連続式)造粒実験動画00h00m03s84.jpg
    • ダウペレ(連続式)造粒実験動画00h00m08s08.jpg
    • ダウペレ(連続式)造粒実験動画00h00m17s39.jpg
    • PB260757造粒○00h05m14s11.jpg
    • 南国CF画像2.jpg
    • 南国ダウミキサ画像3.jpg
    • 南国ダウペレ画像1.jpg
    • 混練造粒試験装置和歌山P9291145R4.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社新日南 京浜事業所

  • モノリスキャピラリーカラム『ULTRON HF-Phenyl』 製品画像

    モノリスキャピラリーカラム『ULTRON HF-Phenyl』

    インタクトタンパク質のLC/MS分析(トップダウンプロテオーム解析)に…

    ムと異なる分離パターンが得られます。 モノクローナル抗体やADC、細胞発現たんぱく質のLC/MS分析など、モダリティ多様化時代の研究開発にご利用下さい。 【特長】 ■シリカ表面への不活性化処理によるキャリーオーバーの抑制を実現 ■未知成分の探索や多種のタンパク質一斉分析が期待できる ■カラム内径は0.1mmで、ナノフローLCで使用可能 ■高感度検出を必要とするLC/MSに適する ...

    メーカー・取り扱い企業: 信和化工株式会社

  • モノリスキャピラリーカラム『ULTRON HF-ODS』 製品画像

    モノリスキャピラリーカラム『ULTRON HF-ODS』

    LC/MSによるタンパク質分析 (プロテオミクス、ショットガン法) で…

    とするnano/micro - LC/MSに適しています。 【特長】 ■プロテオーム解析 (ショットガン法) で、高再現性、高ピークキャパシティーを得ることが可能 ■シリカ表面への不活性化処理によるキャリーオーバーの抑制を実現 ■カラムはPEEKカラムジャケットで保護されているため取扱い容易 ■ロングカラムにて数千種のたんぱく質を分析 ※未修飾のモノリスベアシリカキャピラリーチ...

    メーカー・取り扱い企業: 信和化工株式会社

  • モノリスキャピラリーカラム『ULTRON HF-C4』 製品画像

    モノリスキャピラリーカラム『ULTRON HF-C4』

    インタクトタンパク質のLC/MS分析(トップダウンプロテオーム解析)に…

    タンパク質の一斉LC/MS解析など、モダリティ多様化時代の研究開発にご利用下さい。 【特長】 ■酵素消化をしていないタンパク質(インタクトタンパク質)の分離が可能 ■シリカ表面への不活性化処理でキャリーオーバーを抑制 ■カラム内径は0.1mmで、ナノフローLCで使用可能 ■カラムはPEEKカラムジャケットで保護されているため取扱いも容易 ※未修飾のモノリスシリカキャピラリーチュ...

    メーカー・取り扱い企業: 信和化工株式会社

1〜3 件 / 全 3 件
表示件数
30件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 4校_0617_orionkikai_300_300_2045050.jpg

PR