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  • 間接加熱式縦型乾燥機『NEO サンエスドライヤ』 製品画像

    間接加熱式縦型乾燥機『NEO サンエスドライヤ』

    PR汚泥処分費削減に貢献＆リサイクルにも！食品残渣、その他廃棄物も乾燥でき…

    ボイラからの蒸気を熱源とした蒸気ジャケット（間接加熱）による乾燥熱と、効率の良い熱伝達を考えた遠心造粒で乾燥させる、 安全で容易に運転ができる間接加熱式縦型乾燥機です。 ◇排水処理施設で排出される汚泥だけではなく、食品残渣やその他廃棄物等も乾燥できます。 ◇高速撹拌により乾燥過程でダマになりやすい原料も顆粒状になるので、処理時間も短縮できます。 【特長】 ■幅広い汚泥を乾燥できる ■様々な原料...

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社西原ネオ

  • 廃水処理システム「AT-BCシステム」 製品画像

    廃水処理システム「AT-BCシステム」

    PR低コストで廃水処理能力を大幅に向上可能！廃水処理設備を止めることなく増…

    【増設】 「処理施設の能力不足」や「設置場所が無く増設が困難」といった悩みを AT-BC装置を既設槽上に載せるだけで一発解決！低コストで廃水処理能力を大幅に向上させることができます。活性汚泥法と回転生物接触法の２つの処理法を進化させた廃水処理システムです。 【特長】 ■廃水を止める事無く増設が可能　■工期は2週間程度 ■既設槽上にAT装置を載せるだけで能力が倍以上に ■設備投資費用は２...

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社バチルテクノコーポレーション

  • 技術情報誌 201904-02 セルロースナノファイバー構造解析 製品画像

    技術情報誌 201904-02 セルロースナノファイバー構造解析

    技術情報誌The TRC Newsは、研究開発、生産トラブルの解決、品…

    糖分析の例を示す。 【目次】 形態観察の概要 CNFおよびCNF／ポリマーの観察事例 CNFの結晶化度の評価 CNFの構成糖分析（HPLC-蛍光検出法） 【図表】 図１～図14 機械処理CNF・TEMPO CNFのTEM写真 EVA／NR／TEMPO CNFのTEM写真 EVA／天然ゴム／機械処理CNFの特殊染色TEM写真 PP／CNF 20wt%のSEM像、TEM像、X線C...

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社東レリサーチセンター

  • 技術情報誌 202001-02 酸化ガリウムの結晶構造解析 製品画像

    技術情報誌 202001-02 酸化ガリウムの結晶構造解析

    技術情報誌The TRC Newsは、研究開発、生産トラブルの解決、品…

    】 図１～図13　 断面像、界面層の高分解能TEM像、電子回折パターン、原子分解能平面HAADF-STEM像・STEM像、結晶欠陥の原子分解能平面HAADF-STEM像 イオン注入後、アニール処理後分析結果、注入量、アニール処理温度の異なる試料のCL強度比較、キャリア濃度とdC/dV信号強度の関係...

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社東レリサーチセンター

  • ピンポイント濃縮プレート　※貸出プレートもあります！ 製品画像

    ピンポイント濃縮プレート　※貸出プレートもあります！

    容易に成分の定性分析をすることが可能に。品質管理に好適な特殊撥水加工プ…

    当製品は、当社で開発した特殊撥水加工プレートです（特許第5870439号）。 複雑な前処理が不要のため、汚染なく短時間で溶液を濃縮可能。 1μLのクロロホルム溶液の場合、濃縮・スポット形成にかかる時間は わずか約10秒程度です。 また、滴下場所を選ぶことで、プレート上10か所以...

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社東レリサーチセンター

  • 特殊撥水加工プレート『ピンポイント濃縮プレート』 製品画像

    特殊撥水加工プレート『ピンポイント濃縮プレート』

    微量分析向け前処理ツールとして特殊撥水加工プレートを販売開始！

    『ピンポイント濃縮プレート』は、当社で開発した特殊撥水加工プレート で、微量分析向け前処理ツールとしてご使用いただけます。 本プレート上に希薄溶液を滴下すると、表面に球状の液滴が形成され、 直後に液滴から溶媒が蒸発することで液中に溶解していた微量成分が 数10μm～200μm程...

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社東レリサーチセンター

  • 技術情報誌 202303-02 イオンモビリティ質量分析計 製品画像

    技術情報誌 202303-02 イオンモビリティ質量分析計

    東レリサーチセンターで導入したイオンモビリティ質量分析計の特徴と、ジス…

    【図表】 図１　TIMSデバイスの概略図 図２　断片化された抗体のヒンジ部 図３　ペプチド2種類のモビログラム 図４　同一質量の糖鎖標準品2種類の混合物のモビログラム 図５　クリーンナップ処理によるバックグラウンドの低減...

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社東レリサーチセンター

  • 技術情報誌 201909-01 シリカ表面のシラノール基の定量 製品画像

    技術情報誌 201909-01 シリカ表面のシラノール基の定量

    技術情報誌The TRC Newsは、研究開発、生産トラブルの解決、品…

    ル基量の加熱による変化 ６．まとめ 【図表】 図１～４　表１～６ 反応性シラノール基密度 シリカケイ素の構造 固体29Si NMRスペクトル 反応性・非反応性シラノール基密度 シラン処理シリコンウエハのXPSスペクトル シリコンウエハのシラノール基比率 加熱シリカ粒子のシラノールシラノール基密度 加熱シリコンウエハのシラノール基比率...

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社東レリサーチセンター

  • 技術情報誌 201910-02 DDS技術 製品画像

    技術情報誌 201910-02 DDS技術

    技術情報誌The TRC Newsは、研究開発、生産トラブルの解決、品…

    事例 ４．おわりに 【図表】 図１～９、表１～４ DDSに用いられるキャリア、DDSによる腫瘍ターゲッティングアプローチ リポソームのDSC測定結果、ゼータ電位測定結果、Extrusion処理前後の粒度分布、平均粒子径および多分散指数、クライオTEM像 リポソームのAFM層（液中）、リポソーム弾性率（ベシクル強度）...

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社東レリサーチセンター

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