• 3次元NMRを用いた多糖の分析 製品画像

    3次元NMRを用いた多糖の分析

    PRピークが重複する複雑な有機化合物の構造解析が可能です。

    NMRを用いた有機化合物の構造解析では、一般的に1次元NMR (1H-NMR・13C-NMR)のほかに1次元NMR のピーク同士の相関を確認できる2次元NMRを用いてピークを帰属することで化合物の構造を決定します。しかし、類似構造を多数含む糖類などの化合物では2次元NMRでもピークが重複するため解析が困難です。このような場合には3次元NMRが有効です。 本資料ではオリゴ糖をモデル化合物として、3...

    メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

  • 分析用ガスの除湿に『FORBLUEサンセップSWGシリーズ』  製品画像

    分析用ガスの除湿に『FORBLUEサンセップSWGシリーズ』

    PRガス成分は失わず、水蒸気のみを除去できます。ガス分析のサンプルガスなど…

    【主な特長】 ■水蒸気以外のガス成分を外に逃がさない  非多孔膜を使用しているため、ガス成分はそのままで除湿ができます。 ■取り付けが容易で電源不要  サンセップは電源を使用せず、配線不要です。防爆エリアでの使用も可能で、ノイズの発生もありません。 ■メンテナンス不要  機械的な可動部品や消耗品がないため、メンテナンスは不要です。 ■小型・軽量  さらに、取り付け姿勢に...

    メーカー・取り扱い企業: AGC株式会社 化学品カンパニー

  • 冷却水循環装置『RKE1500B1-V-G2』【レンタル取次ぎ】 製品画像

    冷却水循環装置『RKE1500B1-V-G2』【レンタル取次ぎ】

    液温制御範囲5~35℃と幅広い用途に対応した水槽内蔵DCインバーターチ…

    制御制度±0.1℃の高精度を両立した冷却水循環装置です。 液温制御範囲5~35℃と幅広い用途に対応。 ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、 プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適します。 【特長】 ■30%以上の省エネと圧縮機回転制御方式で温度制御制度±0.1℃の  高精度を両立 ■液温制御範囲5~35℃と幅広い用途に対応 ■フ...

    メーカー・取り扱い企業: ニッシン産業株式会社

  • 冷却水循環装置『RKE3750B-V-G2』【レンタル取次ぎ】 製品画像

    冷却水循環装置『RKE3750B-V-G2』【レンタル取次ぎ】

    周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現している大型水槽付チラーのご紹…

    冷凍機・ファン・ポンプもインバーター制御。 周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現しています。 ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、 プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適します。 【特長】 ■業界トップクラスの省エネ性能を実現 ■冷凍機・ファン・ポンプもインバーター制御 ■周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現 ■ファ...

    メーカー・取り扱い企業: ニッシン産業株式会社

  • 冷却水循環装置『RKE1500B1-V-G2』 製品画像

    冷却水循環装置『RKE1500B1-V-G2』

    液温制御範囲5~35℃と幅広い用途に対応した水槽内蔵DCインバーターチ…

    制御制度±0.1℃の高精度を両立した冷却水循環装置です。 液温制御範囲5~35℃と幅広い用途に対応。 ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、 プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適します。 【特長】 ■30%以上の省エネと圧縮機回転制御方式で温度制御制度±0.1℃の  高精度を両立 ■液温制御範囲5~35℃と幅広い用途に対応 ■フ...

    メーカー・取り扱い企業: ニッシン産業株式会社

  • 冷却水循環装置『RKE3750B-V-G2』 製品画像

    冷却水循環装置『RKE3750B-V-G2』

    周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現している大型水槽付チラーのご紹…

    冷凍機・ファン・ポンプもインバーター制御。 周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現しています。 ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、 プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適します。 【特長】 ■業界トップクラスの省エネ性能を実現 ■冷凍機・ファン・ポンプもインバーター制御 ■周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現 ■ファ...

    メーカー・取り扱い企業: ニッシン産業株式会社

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