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紫外線照射式+活性炭式でオゾンを分解。半導体や液晶製造プロセスで活躍
分解塔下部のIN側から入り塔内に溜められたオゾン水に溶解しているオゾンを 紫外線ランプ(254nm)の光で分解。さらに、分解塔の後段に設置した 活性炭槽でオゾンの分解を促進します。 半導体や液晶製造プロセスで活躍する製品です。 【標準仕様】 分解原理:紫外線照射式+活性炭式 分解対象液:純オゾン水 分解液温度:20~50℃(周囲温度:15~40℃、90%RH以下) 使...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社アプリクス
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ウイルス・カビのオゾンガス除菌・脱臭。コンパクトで持ち運びが便利。高濃…
【オゾンガスモニタ導入先業界】 ○半導体用装置メーカー →半導体工場で使用されるオゾン水及び洗浄機に搭載されています。 ○環境機器メーカー →環境用の医療機器、研究施設向けオゾン殺菌装置に搭載されています。 ○食品メーカー →...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社アプリクス
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