ヘキサフルオロエタン C2F6 76-16-4

ヘキサフルオロエタン C2F6 76-16-4

1.絶縁ガス、プラズマエッチング剤、高誘電率冷却剤として使用される。 2.マイクロエレクトロニクス産業において、プラズマエッチングガス、デバイス表面洗浄、光ファイバー製造、低温冷凍に使用される。 ヘキサフルオロエタンは、無毒、無臭、高安定性のため、半導体製造工程で広く使用されている，例えば、エッチャント（ドライエッチング）として。 化学蒸着（CVD、Chemical Vapor Deposit...

メーカー・取り扱い企業： CHEMFISH TOKYO株式会社 TOKYO