タンパク質汚れ可視化ライト【ワープサーチ】WARP Search

PR菌の増殖源がひと目でわかる医療照明のプロ発明！タンパク質汚れ可視化ライ…

医療現場のニーズに応えて、医療照明のプロが発明しました。 WARP Searchは、雑菌の増殖源になるタンパク質汚れを特殊な光で可視化します。 普段目に見えないタンパク質汚れが一目でわかるので汚れを見逃さず、洗浄後はキレイが一目瞭然です。 タンパク質汚れには、弊社製品のソウジスキー（アルカリ性）での洗浄が効果的です。 好適な衛生環境を作り上げるために是非ともお役立て下さい。 【デモ機の貸...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社アドミライ

3D希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解…

ー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【半導体向け】解析シミュレーションソフト　※カタログ進呈

工数・コスト削減に！薄膜生成、スパッタリング、プラズマエッチングなどの…

【その他の特長】 ■粒子法を用いた希薄流体シミュレーションソフトウェアで、 　真空チャンバーを用いる実験や装置開発に有用 ■CVDのような化学反応を含む成膜のシミュレーションが可能 ■非構造メッシュを採用しているため、実際の装置の形状そのままを 　計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られます ■粒...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『DSMC-Neutrals』真空排気シミュレーション

真空排気シミュレーションなど 低圧条件のガス流れの解析ができる 希…

ー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

半導体プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 Monte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

半導体関連装置向け解析シミュレーションソフト

ガス流れや薄膜生成のシミュレーションに。大規模形状でも短時間計算

【その他の特長】 ■粒子法を用いた希薄流体シミュレーションソフトウェアで、 　真空チャンバーを用いる実験や装置開発に有用 ■CVDのような化学反応を含む成膜のシミュレーションが可能 ■非構造メッシュを採用しているため、実際の装置の形状そのままを 　計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られます ■粒...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

真空排気シミュレーションソフト『DSMC-Neutrals』

真空排気シミュレーションなど 低圧条件のガス流れの解析ができる 希…

ー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

粒子法3D希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解…

ー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

真空装置向け 希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』

低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解…

ュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』 はプラズマ反応炉や化学蒸着(CVD)な…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

プラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

3Dプラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

マグネトロンスパッタ用解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』はマグネトロンスパッタ装置を得意とする …

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

CCP シミュレーション解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

CVD装置用　解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 Monte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

ICPにも対応 解析ソフト『Particle-PLUS』

『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 Monte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS 2周波CCP

「Particle-PLUS」での解析事例紹介 Particle…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介「RFマグネトロンスパッタ解析」…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析

Particle-PLUS解析事例紹介「GEC-CCP装置のプラズマ解…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理

Particle-PLUS解析事例紹介「CCPによるクリーニング処理」…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS AC マグネトロンスパッタ

「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「AC マグネトロン…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」円筒型マグネトロンスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介「円筒型マグネトロン装置のプラズ…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン

Particle-PLUS解析事例紹介「誘電体標的のRFマグネトロンス…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析

Particle-PLUS解析事例紹介「2周波CCPのプラズマ解析」シ…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ

プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、DCマグネトロンスパッ…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』円筒型マグネトロン装置

長い円筒の内側に強い膜を成膜する方法のひとつである、円筒標的を用いたマ…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」対抗ターゲット式スパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介 "対面ターゲットを用いた…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」CCP装置の3次元解析

Particle-PLUS解析事例紹介 "容量結合プラズマ（CC…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS 対向ターゲット式スパッタ

「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「対向ターゲット式ス…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS 外部回路モデルを用いたCCP

Particle-PLUS解析事例紹介 外部回路としてπ 型マッ…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D

「Particle-PLUS」は 真空チャンバ内のプラズマ解析を得意と…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』CCPでのクリーニング処理

代表的なドライエッチング手法のひとつである CCP（容量結合プラズマ…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ

プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、RFマグネト…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】「Particle-PLUS」イオンビームの質量分析

Particle-PLUS解析事例紹介 "イオンビームの質量分析…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS ロールツーロールスパッタ

Particle-PLUS解析事例紹介 "回転ターゲットのマグネ…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS　回転ターゲットのマグネトロン

カットセルメッシュを用いた回転ターゲットのマグネトロンスパッタシミュレ…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

【事例】Particle-PLUS:3D対向ターゲット式パッタ

Particle-PLUS解析事例紹介「対向ターゲット式パッタ(3D解…

【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな 　計算時間幅　Δt　で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには 　 onte-Carlo　Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、 　 迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社