• ラボ用撹拌機アジター【R&D、研究開発向け】 製品画像

    ラボ用撹拌機アジター【R&D、研究開発向け】

    PR様々な目的に応じて攪拌ができるように開発したラボ用撹拌機!物性・目的に…

    邪魔板不要で上下循環流を発生させる「往復回転式攪拌機アジター」 「ジェット式アジター」のほか気液反応に適した「ミクロアジター」の 実験機です。物性・目的に応じて実験できる3タイプを用意!実験に適した 機械の選定、実験方法、スケールアップ等、お気軽にご相談ください。 【製品詳細】 ■往復回転式攪拌機「SV」  三角翼をつけた撹拌軸が1/4回転ごとに反転する撹拌機です。 ■ジェッ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社島崎エンジニアリング 本社

  • 遺伝子増幅装置『GENEMAL』食中毒菌や標的遺伝子を迅速検出! 製品画像

    遺伝子増幅装置『GENEMAL』食中毒菌や標的遺伝子を迅速検出!

    PRコンパクトな装置で遺伝子増幅から検出まで最短30分【食品・検査分野など…

    GENEMAL-ジェネマル-は、LAMP法による「等温遺伝子増幅」と「蛍光検出」を短時間で行うことができる小型の蛍光検出装置です。本装置はヒートブロックを有し、装置搭載のタッチパネルで測定条件を設定することで反応条件の最適化が可能です。また、リアルタイムに蛍光を検出することで遺伝子増幅をモニターすることができ、予め設定したパラメーターでの自動判定も可能です。 さらに、同時発売の食中毒菌検出用LA...

    • トップコラム用画像-GENEMAL2.png
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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ニッポンジーン

  • ガス精製装置『ゲッター式ガス精製装置Model-UHG・URT』 製品画像

    ガス精製装置『ゲッター式ガス精製装置Model-UHG・URT』

    当社が開発した独自のゲッターによりガスの高純度精製が可能です!

    『ゲッター式ガス精製装置Model-UHG・URT』は、当社が開発した独自の ゲッターによりガスの高純度精製が可能です。 常温吸着式では除去困難な窒素(N2)の除去が可能です。 反応筒(ゲッター)の積算精製ガス流量および積算精製時間を表示しますので、 反応筒の残有精製能力を確認できます。 水素ガス精製装置の「UHGシリーズ」と希ガス精製装置の「URTシリーズ」を ご用...

    メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社

  • 半導体プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    半導体プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   Monte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • ガス置換装置『GR-8NSO型シリーズ』 製品画像

    ガス置換装置『GR-8NSO型シリーズ』

    炉体開閉タイプを採用!無酸素ガス状態の確認が容易な製品をご紹介

    培養装置では困難だった、メタン菌等 の培養が簡単に可能。専用の気密培養装置(加圧培養試験管)に針を刺すこと によって、ツマミ一つで真空排気と無酸素ガス注入加圧を行うことができます。 また、反応管はフロントパネルの温度調節器により、温度設定が容易で 適温に維持することが可能です。 【特長】 ■還元銅カラムの状態を、管状炉を開ける事により目視確認できる ■管状炉の反応管を通すこと...

    メーカー・取り扱い企業: オルイー株式会社

  • 気泡発生装置『イーバブル』 製品画像

    気泡発生装置『イーバブル』

    畜産廃水の脱色や、浄化槽処理水の脱色などに実施されています!

    気泡発生装置です。 本装置では、微細気泡とオゾンの併用で、色素成分を酸化分解し、無色 の水を得ることが可能です。 特殊ノズルにより、微細気泡の径が均一で長寿命です。長寿命のため、 高反応高効率で、低消費電力。また、ユニット化されているので、 省スペースで作業の邪魔にならず、既存施設への後付も簡単です。 【特長】 ■長寿命 ■低消費電力 ■強力な酸化力 ■高反応高効率...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社戸上電機製作所 東京支社

  • 二酸化塩素ガスによる除染の優位性 製品画像

    二酸化塩素ガスによる除染の優位性

    安定したガス供給が可能!二酸化塩素ガスは短時間でガスの回収ができます

    いて、ほとんどの微生物を速やかに不活化 ■高濃度の二酸化塩素ガスの生成は、現場(オンサイト)で行う必要がある ■二酸化塩素は、太陽光で分解し、紫外線や熱によっても効力が低下する ■二酸化塩素は反応副産物として、トリハロメタンを生成しない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社トラステック愛知 本社

  • 酸素ガス 製品画像

    酸素ガス

    製造業や食品業界など様々な現場で使われる酸素ガスを取り扱っております

    当社では、様々な現場で使用されている酸素ガスを取り扱っております。 工業用途では、鉄鋼業などで炉の吹き込みに使われるほか、 鋼材の溶接・切断に、化学分野での酸化反応工程などに使用されます。 【ラインアップ】 ■液化酸素(LGC) ■酸素ガス(ボンベ) ■酸素ガス(小型ボンベ) ※貸出不可 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マスコール

  • 粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』 製品画像

    粒子法プラズマ解析ソフトウェア『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』 はプラズマ反応炉や化学蒸着(CVD)な…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 二酸化塩素ガス除染システム 製品画像

    二酸化塩素ガス除染システム

    拡散性に優れ、大空間に適用しやすい!現場で二液を反応させてガスを発生さ…

    『二酸化塩素ガス除染システム』は、現場で二液を反応させて ガスを発生させるシステムのため、安定したガス供給が可能です。 優れた除染能力を持ち、芽胞菌にも有効。 ガスの回収時間が短く、除染時間が短縮できます。 この他にも、二酸化塩素ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社トラステック愛知 本社

  • プラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    プラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 3Dプラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    3Dプラズマシミュレーションソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』は、 粒子法を用いたプラズマ・希薄流体…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • マグネトロンスパッタ用解析ソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    マグネトロンスパッタ用解析ソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』はマグネトロンスパッタ装置を得意とする …

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • CCP シミュレーション解析ソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    CCP シミュレーション解析ソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • CVD装置用 解析ソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    CVD装置用 解析ソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』は2周波CCP 解析も得意とする 粒子…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   Monte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • ICPにも対応 解析ソフト『Particle-PLUS』 製品画像

    ICPにも対応 解析ソフト『Particle-PLUS』

    『Particle-PLUS』はICPやCCP 解析も得意とする 粒…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   Monte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS 2周波CCP 製品画像

    【事例】Particle-PLUS 2周波CCP

    「Particle-PLUS」での解析事例紹介 Particle…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」RFマグネトロンスパッタ

    Particle-PLUS解析事例紹介「RFマグネトロンスパッタ解析」…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析 製品画像

    事例:Particle-PLUS:GEC-CCP装置プラズマ解析

    Particle-PLUS解析事例紹介「GEC-CCP装置のプラズマ解…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理 製品画像

    【事例】Particle-PLUS:CCPによるクリーニング処理

    Particle-PLUS解析事例紹介「CCPによるクリーニング処理」…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS AC マグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】Particle-PLUS AC マグネトロンスパッタ

    「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「AC マグネトロン…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】「Particle-PLUS」円筒型マグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」円筒型マグネトロンスパッタ

    Particle-PLUS解析事例紹介「円筒型マグネトロン装置のプラズ…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン 製品画像

    【事例】Particle-PLUS:誘電体標的のRFマグネトロン

    Particle-PLUS解析事例紹介「誘電体標的のRFマグネトロンス…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」2周波CCPのプラズマ解析

    Particle-PLUS解析事例紹介「2周波CCPのプラズマ解析」シ…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】『Particle-PLUS』DCマグネトロンスパッタ

    プロセスプラズマを用いた成膜手法のひとつである、DCマグネトロンスパッ…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】『Particle-PLUS』円筒型マグネトロン装置 製品画像

    【事例】『Particle-PLUS』円筒型マグネトロン装置

    長い円筒の内側に強い膜を成膜する方法のひとつである、円筒標的を用いたマ…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】「Particle-PLUS」対抗ターゲット式スパッタ 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」対抗ターゲット式スパッタ

    Particle-PLUS解析事例紹介 "対面ターゲットを用いた…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】「Particle-PLUS」CCP装置の3次元解析 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」CCP装置の3次元解析

    Particle-PLUS解析事例紹介 "容量結合プラズマ(CC…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS 対向ターゲット式スパッタ 製品画像

    【事例】Particle-PLUS 対向ターゲット式スパッタ

    「Particle-PLUS」での解析事例紹介 「対向ターゲット式ス…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS 外部回路モデルを用いたCCP 製品画像

    【事例】Particle-PLUS 外部回路モデルを用いたCCP

    Particle-PLUS解析事例紹介 外部回路としてπ 型マッ…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D 製品画像

    【事例】Particle-PLUS DCマグネトロンスパッタ3D

    「Particle-PLUS」は 真空チャンバ内のプラズマ解析を得意と…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】『Particle-PLUS』CCPでのクリーニング処理 製品画像

    【事例】『Particle-PLUS』CCPでのクリーニング処理

    代表的なドライエッチング手法のひとつである CCP(容量結合プラズマ…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ 製品画像

    【事例】『Particle-PLUS』RFマグネトロンスパッタ

    プロセスプラズマを用いた誘電体膜の成膜手法のひとつである、RFマグネト…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】「Particle-PLUS」イオンビームの質量分析 製品画像

    【事例】「Particle-PLUS」イオンビームの質量分析

    Particle-PLUS解析事例紹介 "イオンビームの質量分析…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS ロールツーロールスパッタ 製品画像

    【事例】Particle-PLUS ロールツーロールスパッタ

    Particle-PLUS解析事例紹介 "回転ターゲットのマグネ…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS 回転ターゲットのマグネトロン 製品画像

    【事例】Particle-PLUS 回転ターゲットのマグネトロン

    カットセルメッシュを用いた回転ターゲットのマグネトロンスパッタシミュレ…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 【事例】Particle-PLUS:3D対向ターゲット式パッタ 製品画像

    【事例】Particle-PLUS:3D対向ターゲット式パッタ

    Particle-PLUS解析事例紹介「対向ターゲット式パッタ(3D解…

    【特長】 ●時間スキームに陰解法を用いており、通常の解法に比べて大きな  計算時間幅 Δt で安定に時間発展を求めることが可能 ●中性ガスと電子およびイオンとの衝突反応モデルには   onte-Carlo Scattering 法を採用しており、複雑な反応過程を精度良く、   迅速に計算が可能。 ●中性ガスモジュールは上記プラズマモジュールで用いる初期中性ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ウェーブフロント 本社

  • 常温吸着式空気精製装置 製品画像

    常温吸着式空気精製装置

    常温吸着式空気精製装置

    JAR型空気精製装置は主にステッパー、自動車排ガス測定用ゼロガス、 燃料電池用のガス精製を目的とした精製装置です。 【特長】 ・常温吸着式ガス精製装置です。(ただし、反応筒は加熱状態で使用します。) ・当社が開発した独自の触媒により各不純物濃度は1ppb以下です。 ・ニ系統以上の筒の自動切換により、高純度に精製された空気を安定して連続供給します。 ...

    メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社

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