DUV CW深紫外半導体レーザーシステム

193 nm, 213 nm, 244 nm, 257 nm, 266…

トプティカ社の深紫外半導体レーザーシステムはリソグラフィー、光学テスト＆検査、ホログラフィーを含む多くの要求の厳しいアプリケーションにとって理想的な単一周波数レーザー光源です。 本レーザシステムはFHG発生技術を用いて193nmまでのDUV波長をCW発振することが可能です。半導体レーザーをベースとしたオールソリッドデザインを採用することで電気/光...

メーカー・取り扱い企業： トプティカフォトニクス株式会社 営業部

405nm / CW / 1W 高出力半導体レーザー

405nm、1Wの高出力で単一周波数発振を実現。ハンドリングが容易な連…

Holo-Litho 405はホログラフィおよびリソグラフィ用途で一般的に使用されてきた消費電力の大きいKr イオンガスレーザー(406.7 nmおよび413.1 nm)の代替品として理想的なCWレーザーシステムです。「オール半導体」方式を採用したHolo-Litho 405は消費電力が0.08 W以下であり水冷機器を一切必要としません。また長寿命の半導体レーザーの採用により運用コストを大幅に低減...

メーカー・取り扱い企業： トプティカフォトニクス株式会社 営業部