【6月FOOMA 2024出展！】高速パウチピッキングロボット

PR【展示会初出展！】小袋製品やパウチなど、軽量薄型ワークの高速ピッキング…

【展示会情報】 ＜FOOMA JAPAN 2024＞ 会期：2024年6月4日（火）〜7日（金） 会場：東京ビッグサイト 東1〜8ホール 弊社ブース：「東3F-71」 【新開発！】 こんなお悩みございませんか？ ・ワークの厚みが薄く、ワーク同士が重なってうまく供給できない ・品種が多く、自動化に諦めていた ・思い通りの能力がでない このような問題を解決したのが、高速パウチピッキングロボット『TＰ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社徳永製作所

遺伝子増幅装置『GENEMAL』食中毒菌や標的遺伝子を迅速検出！

PRコンパクトな装置で遺伝子増幅から検出まで最短30分【食品・検査分野など…

GENEMAL-ジェネマル-は、LAMP法による「等温遺伝子増幅」と「蛍光検出」を短時間で行うことができる小型の蛍光検出装置です。本装置はヒートブロックを有し、装置搭載のタッチパネルで測定条件を設定することで反応条件の最適化が可能です。また、リアルタイムに蛍光を検出することで遺伝子増幅をモニターすることができ、予め設定したパラメーターでの自動判定も可能です。 さらに、同時発売の食中毒菌検出用LA...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニッポンジーン

工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』

フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤！NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液または水にて希釈 ・温度：常温 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・10kg缶～ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト R510』

剥離された皮膜は比較的小さい！BOD、COD負荷も他のものと比較して低…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液 ・温度：90～110℃ ・時間：20～90秒 ■対象物 ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／1tコンテナ／ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離促進剤『アンラスト R500』

20kg缶と200kgドラムをご用意！ドライフィルムとポジレジストのレ…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：数～10% ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／200kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』

揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介！

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液 ・温度：常温 ■対象物 ・ガラス ・ドライフィルム ・その他 ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・14kg缶 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト No.2C』

水溶性レジスト剥離剤の用途に！アルミニウム基盤にも使用可能です

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液又は純水にて希釈 ・温度：常温～70℃ ・時間：20～90秒 ■対象物 ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／ドラム／ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト M71-2』

浸漬法、スプレー法にも対応！剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があり…

他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液又は純水にて希釈 ・温度：常温～70℃ ・時間：20～90秒 ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／ドラム／ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

鉄鋼用アルカリ除錆剤『アンラスト 70』

シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能！電子工業の業界で使用…

的。 シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能です。 【特長】 ■短時間に素地を荒らすことなく、水素脆化の心配がない ■シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能 ■容量・荷姿は20kg缶～ローリーをご用意 ■フォトエッチングラインの最終工程や製品の再洗浄用処理剤 　として効果的 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト ROS-2』

漬循環あるいは直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：原液 ・温度：常温～50℃ ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶～ローリー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』

鉄系基材に対し、防・除錆効果あり！生分解性がよく、環境負荷が少ないです

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：数～10% ・温度：50～110℃ ■対象物 ・鉄 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・化学工業 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・20kg缶／200kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離促進剤『アンラスト F』

剥離液に添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容…

【その他の特長】 ■処理条件 ・濃度：数～10% ■対象物 ・ドライフィルム ・ポジレジスト ■使用されている業界 ・電子工業 ■容量・荷姿 ・15kg缶／180kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

塗装剥離液『アンラスト MP』

溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などに！高温使用が可能の為、剥離性に優れ…

【その他の特長】 ■対象物：塗料 ■容量・荷姿：24kg缶／200kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所