Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、 　高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下1...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

個片基板対応マイクロボール搭載機『BM-3500SI』

個片ニーズに対応した新マイクロボールシステム！ボール消費量を抑制

当社で取り扱う、アスリートFA製の個片基板対応マイクロボール搭載機 『BM-3500SI』をご紹介いたします。 ボール振り込みブラシ最適化によるボール消費量を抑制した 個片基板対応マイクロボール搭載機の当製品が完成。 Flux印刷、ボール搭載を複数ユニットで構成＆検査・リペア2工程 によりUPH1.5倍(前号機比)も実現しました。 【特長】 ■個片基板対応を実現 ■Fl...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

ラモンドスターラー(撹拌翼)　※レンタル有

ハニカム（蜂の巣）構造の撹拌翼内部で強力にせん断 超微細化かつ均…

モンドナノミキサー」、撹拌装置「ラモンドスターラー」、ウルトラファインバブル(ナノバブル)発生装置「ナノ・フレッシャー」、研究開発用「ナノクイック」、ウルトラファインバブル(ナノバブル)塩水処理機「新鮮保つ君」の取り扱いをしています。 ◆RS050Aは、通常の撹拌モーターに付属するφ８ｍｍシャフトに取り付けられます。 液面の乱れがなく、通常の撹拌翼の半分の時間で撹拌。 相溶性の悪い材料...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

勤怠・作業実績管理システム

体温を記録するオプションを搭載！出退勤から個人・業務ごとの作業実績まで…

端末に2次元カラーコードをかざすことで出退勤などの動態管理を行うシステムです。 作業エリアごとにタブレットを設置することで、勤怠管理だけではなく、作業実績管理も可能。 このたび体温登録機能が新搭載され、発熱・感染者が出た場合に過去に溯って接触者特定ができるようになりました。 また、高速・高精度の画像認識が可能な“カメレオンコード”を搭載。シアン・マゼンダ・イエロー・ブラックを基本色...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ12対応　高速アニール加熱システム VPO-1000-300

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、 　高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、 　高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下2...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社