研究開発用スパッタリング装置

高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッ…

・高温スパッタにも対応 ■広範囲に分布が良いスパッタ源を標準搭載（±5%以内（SiO2でφ170mm以内）） ■少量生産、夜間自動運転に対応した自動搬送オプションも可能 ■用途 ・有機EL, 太陽電池, 光学部品, バイオ, 半導体・電子部品, 　自動車・樹脂, 特殊膜, MEMS ■代表的な成膜材料 ・誘電体膜ほか 　SiN, SiO2, ZrO, TiO2, 重合膜 ...

メーカー・取り扱い企業： 芝浦メカトロニクス株式会社