• 除染ガス発生装置『steriXcure』 製品画像

    除染ガス発生装置『steriXcure』

    PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

    『steriXcure』は、核酸(DNA・RNA)を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

    メーカー・取り扱い企業: 水戸工業株式会社

  • 『多変量統計解析トレーニングセミナー』11月28日・29日開催 製品画像

    『多変量統計解析トレーニングセミナー』11月28日・29日開催

    PR多変量解析の基礎・原理が良くわかる。実データを用いた解析も行う実践的な…

    2024年11月28日・29日に、当社主催のセミナー 『多変量統計解析トレーニングコース<レベル1> 理論と実践』 を開催いたします。 本コースでは、複雑なデータの関係性を速やかに解釈し、 産業界、研究界で希求される最新の多変量解析技術を どのように業務応用できるかを集中的に学べます。 多変量統計解析、スペクトル解析、知覚・官能データの解析、PAT/QbDなどを テーマに解説する、数学的説明は...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クオリテイデザイン

  • 超高速液体クロマトグラフ用オートサンプラ(UHPLC) 製品画像

    超高速液体クロマトグラフ用オートサンプラ(UHPLC)

    <中古分析機器>

    注入方式:全量試料注入方式、注入量可変式 最大使用圧力:130 MPa 注入量設定範囲:標準全量試料注入方式:0.1~50 μL 試料処理数:70 (1.5 mLバイアル) 上記に加え1.5 mLバイアル10 使用可能 注入量正確さ:±1 %(全量注入方式、指定条件下) 注入量再現性:RSD≦0.25 %(全量注入方式、指定条件下) ...

    メーカー・取り扱い企業: テクノミックス株式会社

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