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PRピークが重複する複雑な有機化合物の構造解析が可能です。
NMRを用いた有機化合物の構造解析では、一般的に1次元NMR (1H-NMR・13C-NMR)のほかに1次元NMR のピーク同士の相関を確認できる2次元NMRを用いてピークを帰属することで化合物の構造を決定します。しかし、類似構造を多数含む糖類などの化合物では2次元NMRでもピークが重複するため解析が困難です。このような場合には3次元NMRが有効です。 本資料ではオリゴ糖をモデル化合物として、3...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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PR食材や調味料の付着や油汚れを減らし洗浄時間は最大1/2の事例も有り。
【こんなお客様に!】 ◎食品搬送ラインの品物の滞留で困っている・・・ ◎設備に付着した油などの洗浄に時間がかかる・・・etc ⇒非粘着性、撥水性、滑り性に関するお悩みを解決いたします! 【特長】 ◆食品製造ラインへの採用実績多数 ◆撥水性、滑り性が非常に優れている ⇒Ni金属をベースにPTFEを複合した皮膜 ◆金属膜のため硬く、傷がつきにくく、長持ち ◆ステンレスとの密着性が良好 ◆食品衛生法に...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本プロトン
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【技術資料】湿式プロセスによるTiO2ゲル膜に対する光照射効果
薄膜形成プロセスの低温化に寄与!分解過程と結晶構造の変化について比較検…
子の結合エネルギーよりも大きく なります。 また、照射による熱過程をともなわずに光子の作用のみで原子の結合を開裂 できるため、薄膜形成プロセスの低温化に寄与するものと期待できます。 本研究では、工業的に多用されているTiO2について、ゲル膜を熱処理した ときおよび、エキシマランプによるVUV光照射と熱処理を併用したときの 分解過程と結晶構造の変化について比較検討しました。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー
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強い酸化作用を利用!照射条件を変えてVUV光を照射したときの膜質につい…
比較的低温の熱処理でシリカ膜を得る方法として、ペルヒドロポリシラザン等の セラミック前駆体ポリマーを大気中あるいは水蒸気中において450℃程度の温度で 焼成する方法が報告されています。 本研究は、TMOSやTEOSと異なりOを含まないPHPSを低温でシリカへ転化させるために、 酸素の活性種における強い酸化作用を利用することを目的としました。 そこで、薄膜形成時の照射雰囲気にお...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー
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【技術資料】真空紫外エキシマランプを用いたポリエチレンの表面改質
波長172nmの真空紫外光をポリエチレンシートに照射!表面の改質につい…
持ち、 様々な分子内結合を効率よく光解離が可能。 このため、ランプは液晶表示パネルに使われるガラス基板の精密光洗浄などに 実用化されているのを始め、様々な応用展開が図られています。 本研究では、汎用樹脂であるが、印刷性・接着性が低いポリエチレンに、 真空紫外光を照射した際の、表面の物理・化学的変化について検討を行い ました。 【掲載内容】 ■はじめに ■実験 ■結...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー
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【技術資料】真空紫外光を用いたポリマーの改質と照射雰囲気効果
真空紫外(VUV)光を用いた表面改質技術!改質効果の違いについて検討
ため、非熱過程で分子の結合を 切断することが可能。 物理的表面処理として代表的なプラズマ処理等と比べ、低コストかつ表面への ダメージが少なく、表面処理ができるという特長を持ちます。 本研究では、真空紫外光をポリマーに照射し、照射に伴う表面の物理、 化学的変化と、照射中の雰囲気ガスによる改質効果の違いについて検討を 行いました。 【掲載内容】 ■はじめに ■実験 ■...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー
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1~2kW/m2の光照度の実現!高出力化に必要な要素技術の検討
ノンガスを用いたエキシマランプでは、波長172nmの 真空紫外光を、100W/m2という高い光照度で生み出すことができ、 材料表面の光分解洗浄や光表面改質などに盛んに応用が進んでいます。 本発表では、従来のランプより10~20倍明るい、1~2kW/m2の 光照度の実現を念頭に置いて、高出力化に必要な要素技術の検討を 行いました。 【掲載内容】 ■エキシマランプの原理と研究開...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー
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