株式会社クォークテクノロジー 【技術資料】ペルヒドロポリシラザンによるシリカ薄膜の形成

強い酸化作用を利用!照射条件を変えてVUV光を照射したときの膜質について検討

比較的低温の熱処理でシリカ膜を得る方法として、ペルヒドロポリシラザン等の
セラミック前駆体ポリマーを大気中あるいは水蒸気中において450℃程度の温度で
焼成する方法が報告されています。

本研究は、TMOSやTEOSと異なりOを含まないPHPSを低温でシリカへ転化させるために、
酸素の活性種における強い酸化作用を利用することを目的としました。

そこで、薄膜形成時の照射雰囲気における酸素濃度の影響や、光子エネルギーに
よる結合切断の必要性を調べるために、PHPS溶液を用いたスピンコーティング膜に、
照射条件を変えてVUV光を照射したときの膜質について検討しました。

【掲載内容】
■緒言
■実験
■結果と考察
■結論

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報【技術資料】ペルヒドロポリシラザンによるシリカ薄膜の形成

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

カタログ【技術資料】ペルヒドロポリシラザンによるシリカ薄膜の形成

取扱企業【技術資料】ペルヒドロポリシラザンによるシリカ薄膜の形成

top_logo.jpg

株式会社クォークテクノロジー

○紫外線照射装置製造販売 ○UV-LED照射装置製造販売 ○半導体製造装置製造販売 ○その他、各種石英、セラミック商品取扱

【技術資料】ペルヒドロポリシラザンによるシリカ薄膜の形成へのお問い合わせ

お問い合わせ内容をご記入ください。

至急度必須
ご要望必須

  • あと文字入力できます。

目的必須
添付資料
お問い合わせ内容

あと文字入力できます。

【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。

はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら

イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。

※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

株式会社クォークテクノロジー

【技術資料】ペルヒドロポリシラザンによるシリカ薄膜の形成 が登録されているカテゴリ