水切乾燥システム＜HFE溶剤による水切り・乾燥のメカニズム＞

HFE溶剤に過飽和に溶け込んだ水分を装置外へ確実に取り除きます！

当社で取り扱う、「水切乾燥システム」のHFE溶剤による 水切り・乾燥のメカニズムについてご紹介いたします。 洗浄されたガラス基板は水を付着したまま、HFE溶剤中に浸漬。 超音波の作用と純粋と溶剤との密度差により、簡単にガラス基板から 剥離され、急浮上し水分離槽へ。 ガラス基板はHFE溶剤の蒸気中で蒸気洗浄をして、乾燥層では付着した HFE溶剤を除去し、乾燥完了となります。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノダキ 本社