洗剤内製化でコスト削減｜高pHアルカリ電解水生成装置

PR【FOOMA出展 実物展示あり】pH 13.2 のアルカリ電解水を高効…

【FOOMA JAPAN 2024 6/4-7出展。実物展示あり。4B-01(東4ホール)】 『高pHアルカリ電解水生成装置』は、最低限の設備環境で使用可能な製品です。 業界最高水準pH13.2のアルカリ電解水を低コストで生成。酸性水、塩素ガス、廃水が発生しないため、廃液処理コストや管理は不要です。 電解質は環境に配慮した食品添加物を採用しており、環境汚染物質はありません。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社バンガードエンタープライズ

放射線測定サービス

工業製品・大気中・水・食品など、放射線の測定はおまかせください

製品の出荷前検査や輸出品など、放射線量を測定し報告書を作成いたします。英文の報告書も作成可能です。 検体ごとに適切な測定機器をもちいて測定を行います！ 【輸出コンテナや製品からの放射線量率を確認】 【食品の放射能を測定】 【田畑などからの土の放射能を測定する】 【海水・水道水などの放射能を測定する】 ★★出張測定サービス実施中★★ 御社に伺っての測定を行います。（※交通費・宿...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

【分析事例】クリーンルーム内有機化合物の評価方法

GC/MS：ガスクロマトグラフィー質量分析法

半導体や液晶などの製造が行われているクリーンルームでは、パーティクルだけでなく分子レベルの化学汚染（分子状汚染）を把握することが重要です。浮遊分子状汚染物質としては酸・塩基性ガスや凝集性有機物質、ドーパント、金属などが挙げられ、成分に応じて分析方法は異なります。 ここでは凝集性有機物質の詳細と、代表的な捕集方法である“吸着剤捕集”と“ウエハ暴露捕集...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

【分析事例】フッ素系潤滑剤・高分子の同定

汚染成分を同定し、汚染発生工程を推定

フッ素系の化合物はさまざまな種類が存在します。汚染原因調査の際、フッ素系の種類の定性を行うことで、原因となった工程を調べることが可能となります。そこで、表面敏感なTOF-SIMSを用いて水はじきのよい場所に何が付着しているか分析を行いました。 各工程で使用しているフッ素系のオイルは、種類によってフラグメントパターンが異なることを利用し、指紋照合を行ったところ、工程Bのオイルに相当する物質が付着し...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

【分析事例】有機ふっ素化合物（PFOS・PFOA等）の分析

製品中・排水・環境水の分析に対応可能です

有機ふっ素化合物は、界面活性剤、金属めっき処理剤等様々な用途で使用されています。そのうち、ペルフルオロオクタンスルホン酸（PFOS）は、製造・使用・輸出入を制限する残留性有機汚染物質に関するストックホルム条約（POPs条約）の対象物質です。さらに、ペルフルオロオクタン酸（PFOA）についても規制物質への追加が検討されています。PFOAやPFOS以外にも、炭素鎖数が異なるペルフ...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

【分析事例】部品表面のシミ・水はじきの原因調査

切断できない大きな部品でも表面汚染を適切にサンプリングして測定

Al材表面に水はじきのよいシミがあることがわかりました。そのシミ部をテープに付着（転写）させ、TOFSIMSで分析を行いました。 「シミ部を転写させたテープ表面」からは、「Al材表面のシミ部」と同じフラグメントが検出されており、シミの原因物質がテープに転写されているものと考えられます。このように、原因物質をテープに転写させて採取するこの方法は、切断ができない部品に有効です。...詳しいデータはカ...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

【分析事例】機械部品の洗浄前後における付着成分調査

洗浄効果評価や汚染物質の同定が出来ます

ポンプやエンジン等の機械部品をオーバーホールする際、部品を洗浄して再利用する場合があります。 その際、洗浄によって汚れが十分に取り除けていない場合、組み立て後の機械で不具合が生じる危険性があります。汚れの付着有無を調べたり、付着している成分が何かを調べるには、加熱脱着GC/MS（TD-GC/MS）が有効です。試料を高温（上限350℃）で加熱することで、付着している有機物を揮発させGC/MSで測定...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

【分析事例】アルミホイル表面の成分分析

光沢面・つやなし面の違いを評価

DMS（シロキサン）、BHT（酸化防止剤）、DOP（可塑剤）、アミン（m/z 182, 242）、アミド（m/z 256, 284）、カルボン酸（m/z 255, 283）など一般的な有機物系二次汚染物質は見られませんでした。Fe、有機物（炭化水素など）は光沢面の方が、SO4などはつやなし面の方が、わずかながら強い傾向が見られました。...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

【分析事例】Siウエハベベル部の汚染評価

金属成分と有機成分を同時に評価可能です

半導体デバイス製造において、歩留まり向上の観点から、ウエハの裏面の清浄度向上に加え、ウエハのベベル部に残留する物質を除去することが求められています。今回、ベベル傾斜面のTOF-SIMS分析を行い、汚染の分布を評価しました（図2）。また、付着物と正常部・汚染源のマススペクトルを比較し、付着物は汚染源の金属（Cr）成分・有機物成分と一致していることがわかりました。 TOF-SIMSにてベベル部（端面...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST

【分析事例】ウエハアナライザーを用いた有機汚染評価

GC/MS：ガスクロマトグラフィー質量分析法

ＷＡ（ウエハアナライザー）は、φ76～300mmのウエハを昇温加熱することにより、ウエハ表面に付着している有機汚染物質をガス化させ捕集管にトラップする装置です。そのため、デバイス特性への影響や製造上のトラブルの原因とされるフタル酸エステル系化合物や環状シロキサン化合物などを濃縮し、GC/MSで高感度に測定できます...

メーカー・取り扱い企業： 一般財団法人材料科学技術振興財団　MST