除染ガス発生装置『steriXcure』

PR養生なしで電子機器などを除染可能。残留も少なく拭き上げ作業も不要。除染…

『steriXcure』は、核酸（DNA・RNA）を分解可能な複合ガスを発生させる装置です。 ドライガスによる除染が行えるため、除染前の電子機器などの養生がいらず、 低濃度で残留もほとんど無いため、除染後の拭き上げ作業も不要。 病原体を扱う実験室の除染のほか、動物実験施設内パスルームに持ち込む 電子機器やゲージ等の除染など、様々な場面で活用できます。 【特長】 ■養生や拭き...

メーカー・取り扱い企業： 水戸工業株式会社

KrosFlo KR2i RPM システム

PRサイクル時間を短縮！歩留率を向上させることでプロセスの効率性を高めます

当社では、リアルタイムプロセス管理とラボスケールタンジェンシャル フローろ過(TFF)を統合した『KrosFlo KR2i RPM システム』を 取り扱っております。 当システムは、KrosFlo KR2i システムとCTech FlowVPX 可変光路長紫外可視分光光度計を組み合わせ、インライン濃度 モニタリングとエンドポイント制御を備えた自動TFFを提供。 KR2iとFlo...

メーカー・取り扱い企業： レプリジェンジャパン合同会社

研磨廃液濃縮システム『セラミック・クロスフローシステム』

研磨廃液から研摩材を回収！優れた分離性能と寿命を持つセラミック膜で廃液…

】 ■研磨材リサイクルフロー ・研磨機からの廃液あるいは研磨機循環スラリーは、粗大粒子除去フィルターを介して 　セラミック・クロスフロー濃縮装置に移送され、循環しながら濃縮される。 ・所定の濃度に達した回収スラリーは自動的に回収タンクあるいは研磨機循環タンクに移送される。 ・固形物が除去された透過液は再利用、放流あるいは廃液処理設備へ移送される。 ■研磨排液の濃縮減容化と研磨材およ...

メーカー・取り扱い企業： 岩井ファルマテック株式会社 膜分離事業部