濃度 | イプロス医薬食品技術

PR菌の増殖源がひと目でわかる医療照明のプロ発明！タンパク質汚れ可視化ライ…

医療現場のニーズに応えて、医療照明のプロが発明しました。 WARP Searchは、雑菌の増殖源になるタンパク質汚れを特殊な光で可視化します。普段目に見えないタンパク質汚れが一目でわかるので汚れを見逃さず、洗浄後はキレイが一目瞭然です。タンパク質汚れには、弊社製品のソウジスキー（アルカリ性）での洗浄が効果的です。好適な衛生環境を作り上げるために是非ともお役立て下さい。【デモ機の貸...

メーカー・取り扱い企業：合同会社アドミライ

レジスト剥離液『アンラスト R510』

剥離された皮膜は比較的小さい！BOD、COD負荷も他のものと比較して低…

【その他の特長】 ■処理条件・濃度：原液・温度：90～110℃ ・時間：20～90秒 ■対象物・ポジレジスト ■使用されている業界・電子工業 ■容量・荷姿・20kg缶／1tコンテナ／ローリー ※詳しくは...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『マストーバ MIS-3b』

結晶化したシリカ系スケール除去に！青色ジェルなので拭き残しが一目で分か…

【その他の特長】 ■処理条件・濃度(％)：原液・温度(℃)：常温 ■使用されている業界・電子工業 ■容量・荷姿・500ml～10L缶 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト M71-2』

浸漬法、スプレー法にも対応！剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があり…

【その他の特長】 ■処理条件・濃度：原液又は純水にて希釈・温度：常温～70℃ ・時間：20～90秒 ■対象物・ドライフィルム・ポジレジスト ■使用されている業界・電子工業 ■容量・荷姿・20kg缶／ドラム...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』

フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤！NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…

【その他の特長】 ■処理条件・濃度：原液または水にて希釈・温度：常温 ■対象物・ドライフィルム・ポジレジスト ■使用されている業界・電子工業 ■容量・荷姿・10kg缶～ローリー ※詳しくはPDF資料を...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

鉄鋼用アルカリ除錆剤『アンラスト 70』

シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能！電子工業の業界で使用…

【処理条件】 ■濃度：30％～原液 ■温度：70～105℃ ■時間：20～180秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離促進剤『アンラスト R500』

20kg缶と200kgドラムをご用意！ドライフィルムとポジレジストのレ…

【その他の特長】 ■処理条件・濃度：数～10% ■対象物・ドライフィルム・ポジレジスト ■使用されている業界・電子工業 ■容量・荷姿・20kg缶／200kgドラム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『アンラスト RC-2』

揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介！

【その他の特長】 ■処理条件・濃度：原液・温度：常温 ■対象物・ガラス・ドライフィルム・その他 ■使用されている業界・電子工業 ■容量・荷姿・14kg缶 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

塗装剥離液『アンラスト CB』

アルミ及びアルミ合金材に対する腐食性が無く対応可能！液疲労が小さく非常…

【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：50～70℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

レジスト剥離液『アンラスト No.2C』

水溶性レジスト剥離剤の用途に！アルミニウム基盤にも使用可能です

【その他の特長】 ■処理条件・濃度：原液又は純水にて希釈・温度：常温～70℃ ・時間：20～90秒 ■対象物・ポジレジスト ■使用されている業界・電子工業 ■容量・荷姿・20kg缶／ドラム／ローリー ※...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

工業用洗浄剤『マストーバ SC』

配管内に付着したスケールの洗浄液で、SUS304や塩ビへの影響がなく使…

【処理条件】 ■濃度(％)：原液 ■温度(℃)：常温 ■時間：15分～2時間 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所

塗装剥離液『アンラスト EW-R』

エナメル電線皮膜を剥離することが可能！塩素系、アミン系の溶剤を含有して…

は、対象物を浸漬し、ウエス等での拭き取りでエナメル電線皮膜を剥離することが可能。塩素系、アミン系の溶剤を含有せず、臭いを抑え、人体への影響が少ない製品です。【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～60℃ ■時間：30～120分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社三若純薬研究所