ピュアスチーム発生装置

PR省スペースを実現。ピュアスチーム発生量に比例して供給水量を制御。

本装置は、独自に開発した高効率の上昇流下液膜方式の蒸発缶を採用。 さらに、独自の圧力制御（予測制御）により発生蒸気圧力を安定して供給することが可能です。 SUS316L＋EP仕様でピュアスチーム発生量ごとにラインアップしております。 【特長】 ■蒸発缶と気液分離缶を一体化させることで省スペースを実現 ■始動より定格運転までの立上がりが早い ■飛沫同伴が生じないサイクロン方式の気液分...

メーカー・取り扱い企業： クリーンメカニカル株式会社 本社

DNAコード化ライブラリー(DEL)：創薬スクリーニングの新手法

PR研究の初期段階を加速！NGSで化合物スクリーニングができるDNAコード…

効率的な化合物スクリーニング手法として、 創薬の現場などで一般的な手法として確立されてきているDNAコード化ライブラリー（DEL）。 Sigma-Aldrichでは多くの研究者がDELの技術を広く利用できるようするために、 独自のダイナミックライブラリー技術を持つDyNAbind社の協力を得てDELを簡易キット化しました。 準備された実験プロトコルに従いスクリーニングを進めた後は、...

メーカー・取り扱い企業： メルク株式会社ライフサイエンス（シグマ アルドリッチ ジャパン合同会社）

端面電極基板『端面スルーホール基板』

基板端部のスルーホールを外形加工で切断！取付け穴・電源用ユニットなどに…

『端面スルーホール基板』は、基板端部のスルーホールを外形加工で 切断したものです。 従来の端面スルーホールでは切断時に銅バリが発生していましたが、 当社独自のプロセスによりルーター加工でも、バリの無い端面スルーホールを ご提供することが可能。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問合せください。 【使用用途】 ■取付け穴 ■電源用ユニット ...

メーカー・取り扱い企業： 三和電子サーキット株式会社

シリコーン印刷基板

金属ベース基板への対応も可能！耐熱、UV機器関連などの用途に好適

ご紹介いたします。 熱や近年注目されているUV-Cに対しても高い耐候性があり、反射率も高い シリコーンインク。 滲みやすいため回路とのクリアランスを大きくとる必要がありますが、 当社独自技術により実装回路端部との最小クリアランスを0.2mmとした シリコーンインク塗布基板の提供が可能です。 【使用用途】 ■耐熱、UV機器関連など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか...

メーカー・取り扱い企業： 三和電子サーキット株式会社

端面電極基板『狭ピッチ端面スルーホール基板』

ピッチ0.6mm、穴径φ0.15mmも対応可能！バリの無い端面スルーホ…

当社の『狭ピッチ端面スルーホール基板』について、ご紹介いたします。 独自のプロセスにより、狭ピッチでの端面スルーホール形成が可能。 切断時に発生する銅バリについても、スルーホールの切断方法を問わず バリの無い端面スルーホールをご提供することが可能です。 【...

メーカー・取り扱い企業： 三和電子サーキット株式会社