ドラフトチャンバー『ウォークインタイプ DFW型』

PR内部に大型の実験装置や機器を組込めるウォークインタイプのドラフトチャン…

『ウォークインタイプ DFW型』は、多田製作所社製のドラフトチャンバーです。 ドラフトチャンバー内部は床面より十分な有効高さを持っていますので、 フード内に大型の装置や機器を組み立てたり、外部で組み立てた装置を フード内に移動させることも容易に行えます。 独自の気流設計により床面に発生するガスもスムーズに排気されます。 オールステンレス製や防爆仕様等、ご要望に応じた設計が可能です...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社多田製作所

乾湿原料連続式　粉体混合機「ダウミキサーPX」※納入事例集進呈！

PR粉体の乾湿混合｜加湿混練｜造粒前混練など幅広い用途に好適！難易度が高い…

　「ダウミキサー」は独自の不等速2軸機構の採用により、 セルフクリーニングで固着成長を抑制機能（メンテ性）や、2軸間差速で高い均一分散性能（生産性） を兼ね備えており、粘性が高い湿潤原料でも効率よく混合・混練が可能です。 　『ダウミキサーPX型』は、2500台以上の実績がある「ダウミキサー」ノウハウをもとに、 不等速2軸機構に配列する2条巻きの正逆パドルで高度な混練効果と圧密効果が得ら...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社新日南 京浜事業所

前処理自動化システム「PAL RTC」

PAL RTCはさまざまなサンプル前処理およびサンプル調製の ご要望…

なサンプル調製や前処理作業を追加することが可能です。またはオートサンプラー機能は用いず独立したロボットとして作業を行うことも。 お客様ご希望のワークフローに合わせて必要なモジュール類を組み合わせた独自のシステム構成とメソッドをご提供いたします。 【特長】 PALで自動化可能なアプリケーション例 ■液液抽出 ■誘導体化 ■スタンダード調製 ■固相抽出 ■フィルターバイアルによるろ...

メーカー・取り扱い企業： エーエムアール株式会社 本社・ラボセンター

ナノUHPLCカラム『Aurora Generation 3』

分離能・スループット・再現性が向上nanoZeroとエミッタ一体型構造…

『Aurora Generation 3』は、より多くのペプチドを結合できるようになり、 少ないサンプル量でも高分離能で優れた同定結果を得ることが可能な ナノUHPLCカラムです。 さらに独自設計の「nanoZero」デザインにより、デッドボリュームを除去し、 耐圧>1,700barの高耐圧も実現しました。 エミッタ一体型のカラムデザインは、異なるカラムや製造バッチ間でも より...

メーカー・取り扱い企業： エーエムアール株式会社 本社・ラボセンター

大気圧イオンソース「SICRIT」

揮発性成分の高感度分析イオンソース LCMSに簡単接続、ppt感度の…

Plasmion社が開発した「SICRIT」は大気圧質量分析は初となるフロースルーソフトイオン化技術を有したイオンソースユニットです。MSの試料導入部に直接取り付け、独自形状のコールドプラズマを使用して導入部へ引き込まれた分子をイオン化します。プラズマは導入部直前で生成するため、透過率ひいては感度が大幅に向上します。LCおよびGCと接続が可能です。 【特長】 ...

メーカー・取り扱い企業： エーエムアール株式会社 本社・ラボセンター

M3エミッター

先端のマルチノズルによりマイクロフローのスループットと高感度化を実現す…

当製品は、先端に8本もしくは5本のノズルをもつ独自設計の エミッターです。 単一のマイクロフローをマルチノズルで複数のナノフローに均等に 分割することで、イオン化効率を劇的に向上させ、堅牢性、 スループットを実現します。 1～40...

メーカー・取り扱い企業： エーエムアール株式会社 本社・ラボセンター

LOTUS Emitter

疎水性コーティングによりメニスカスが内径に固定され、低電圧とイオン化効…

が施されている エレクトロスプレーエミッターです。 メニスカスは先端のエミッター内径部に固定され、蒸発が少なく 低電圧でイオン化効率が良く、より安定したスプレーを実現します。 また、独自の微細加工プロセスによる鋭角かつ非常に厳しい公差で 製造されたエミッター形状で安定したスプレーを生成する、 「Sharp Singularity Emitter」も取り扱っております。 【...

メーカー・取り扱い企業： エーエムアール株式会社 本社・ラボセンター