• 排水処理システム『排水処理膜ろ過システム』 製品画像

    排水処理システム『排水処理膜ろ過システム』

    PR二次汚染物が発生せず、豊富な排水処理実績を誇る排水処理システム!

    『排水処理膜ろ過システム』は、ダイオキシン・重金属を除去する 排水処理システムです。 処理水は、繊細な超高圧ポンプにそのまま再利用でき、放流可能な レベルまで処理が可能です。 定期的に自動逆洗浄する機能がついている為、安定して高度な処理 水質を得ることができます。 また、焼却施設解体工事での環境負荷の低減・最終処分費の大幅コスト 削減に貢献します。 【特長】 ■環...

    メーカー・取り扱い企業: セントラルフィルター工業株式会社

  • 中小事業者 食品衛生管理サポート<ハサップ(HACCP)対応> 製品画像

    中小事業者 食品衛生管理サポート<ハサップ(HACCP)対応>

    PR多種多様な食品・飼料・環境 検査キットをラインアップしております!

    アヅマックス株式会社は、中小事業者様の食品衛生管理をサポートします。 国内外各提携先の多彩な食品・飼料・環境・農業関連検査キットを 取り扱っております。 世界的に適用する食品規格「コーデックス規格(CODEX)」や「AOAC」、 「グルテン(GFCO)」に対応したキットもございますので、食品の 輸出業務等に携わる事業者様にも安心してお使いいただけます。 【取扱製品(食品・飼...

    メーカー・取り扱い企業: アヅマックス株式会社

  • 屋外・金属設置対応LTEアンテナ 製品画像

    屋外・金属設置対応LTEアンテナ

    金属上での設置にも対応可能! 10m・15mと長尺タイプも用意

    明(TELEC)で多数の実績 ・LTEでアンテナ2個使いする場合も、アンテナ間を事前に適正距離に離したタイプもラインナップ(2.5m、5mタイプ) 長尺の10m・15mタイプもご用意しており、電波環境の悪い場所で使用する場合も 電波環境のよい場所へ延ばして使用することが出来ます。 (但し、15mタイプは減衰影響を受けますので、予めご了承願います) ※詳しくはお問い合わせいただくか、PDFをダウ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • RFIDリーダライタ UTRシリーズ  タカヤ(株) UHF帯 製品画像

    RFIDリーダライタ UTRシリーズ タカヤ(株) UHF帯

    タカヤ(株)より待望のUHF帯RFIDリーダライタが発売されました。

    ●UTRシリーズの特徴 ・免許登録が不要な特定小電力無線局タイプ(出力250mW) ・250mWながら、1Wにも劣らない通信距離が実現  ※選定タグと環境によりことなります。   導入するうえでは、実環境での読取りテストをお願いします。 ・内蔵アンテナにて、かんばんICタグを近接読取り ・工場や物流現場での安定した複数一括読取り処理が可...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 温度・水漏れセンサ『SMARTRAC社 パッシブRFIDタグ』 製品画像

    温度・水漏れセンサ『SMARTRAC社 パッシブRFIDタグ』

    測定対象に貼るだけ!パッシブUHFセンサ(温度/水濡れ)機能搭載RFI…

    C C1G2に準拠した製品です。 ※使用イメージは展示会出展時の動画をご覧ください。  約30秒あたりからか対象製品の動画となります。 ※主なアプリケーションは、コールドチェーンや温度環境管理、自動車などの完成品の水漏れ検査、屋外に設置された設備の水漏れ検知、医療や介護現場等、様々な用途へ安価なセンサーネットワークを構築できます。 また、被着体に対してIC自体が持っているオートチ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • 日精株式会社 物資部「事業紹介」 製品画像

    日精株式会社 物資部「事業紹介」

    ニーズをいち早くキャッチ! 数多くのパートナーと確かな技術力でお応え…

    日精株式会社は、産業用資材から衣・食・住といった日常生活にかかわる各種製品、 環境への影響を考えた生分解性製品から資源再生利用製品に至るまで、お客様のニーズに対応した商品を販売しております。 お客様のニーズをいち早くキャッチすると同時に、数多くのパートナーと確かな技術力でお...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 VSS-300 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 VSS-300

    300mm角対応モデル。ローダー・アンローダーと連携可能で量産にも。 …

    高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒2.5℃のスピード昇温、水冷式でタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度450℃対応(オプションで650℃) ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現  繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がほぼゼロで、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100 製品画像

    Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    ラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • RFID 温度測定・水漏れ検知 スターターキット 製品画像

    RFID 温度測定・水漏れ検知 スターターキット

    "今すぐ温度測定・水漏れ検知可能!" このセットさえあれば直ぐに検証…

    キットのご紹介 【特長】 ・ 複数個の温度計測,水漏れ検知可能 ・ ハンディタイプor 据置き型の2種選択可能 ・ 構内無線局申請不要 ・ 評価用デモアプリケーション付き コールドチェーンや温度環境管理、装置等の温度異常上昇・水漏れ等の予知保全、自動車などの完成品の水漏れ検査、 屋外に設置された設備の水漏れ検知、医療や介護現場等、様々な用途への検討が可能。 今まで測定出来ていなかった場所、有...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ラベルタグ『MIDAS FLAGTAG』 製品画像

    ラベルタグ『MIDAS FLAGTAG』

    印字・エンコードも可能な金属対応タグ! 日用品や工業用製品の金属面用…

    の他の特長】 ■金属部分の形状と大きさに応じて、10メートル以上の読み取り距離を実現 ■ICチップは、Impinj Monza R6P・Impinj M730・NXP UCODE8 が内蔵 ■環境の急激な変化にもパフォーマンスを発揮 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • XERAFY社 RFID『【耐熱】金属専用UHFパッシブ・タグ』 製品画像

    XERAFY社 RFID『【耐熱】金属専用UHFパッシブ・タグ』

    過酷な温度条件化にも対応!直接埋め込み型から超小型製品まで豊富なライン…

    グが求められ、更に現在、非接触でスピーディなID識別の 特長を活かし、高温滅菌処理を施す手術用鋼製小物の個体管理用途への 応用も実用化しています。 【特長】 ■優れた耐熱性能 ■過酷な環境下で使用可能 ■用途に合わせた豊富なラインナップ ■高いコストパフォーマンス ■非接触でスピーディなID識別 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-160-S 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-160-S

    フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…

    に凝縮しました。 【特長】 ■毎分100℃のスピード昇温、さらに水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応(オプションで500℃) ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現  繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RSO-200 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RSO-200

    金属の焼結にも使える最大昇温速度600K/min.の超高速昇温対応モデ…

    に求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒10℃の超スピード昇温、さらに水冷式でタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度650℃対応 ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現  繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がほぼゼロで、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-210-S 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-210-S

    フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…

    高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒4℃のスピード昇温、水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応(オプションで500℃) ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現  繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-110-S 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 真空はんだリフロー装置 RSS-110-S

    フラックスレス・ボイドフリー・鉛フリーなど高信頼性実装を実現するスタン…

    高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒2℃のスピード昇温、水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応(オプションで500℃) ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現  繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご依...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RVS-210 製品画像

    ギ酸・水素還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置 RVS-210

    フラックスなどによりコンタミが多く発生してもメンテナンスが容易なモデル…

    宙などに求められる水準の高信頼性実装を実現します。 【特長】 ■毎秒2℃のスピード昇温、水冷式なのでタクトタイムを大幅削減 ■最大到達温度400℃対応 ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現  繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■加熱プレート上の面内温度差がゼロに近く、大きなワークもムラなく加熱 ※無償デモのご...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • ギ酸・水素還元対応真空はんだリフロー装置 RSS-3×210-S 製品画像

    ギ酸・水素還元対応真空はんだリフロー装置 RSS-3×210-S

    対象物が大きい場合や同時作成にも適した、シリーズ最大の加熱プレートサイ…

    プレート上の面内温度差がゼロに近く、大きい対象物もムラなく加熱 ■設定した温度プロファイルをほぼそのまま実現  繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■ギ酸・水素・窒素など様々な雰囲気環境に対応 ※無償デモのご依頼も承ります。お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300 製品画像

    Φ12対応 高速アニール加熱システム VPO-1000-300

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高濃度水素...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150 製品画像

    Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

    GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

    『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス(水素+窒素)パージの他、  高...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

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