アンモニア分解除害装置

GaN製造プロセスの排ガス処理を目的とした除害装置です。

本装置は主にGaN製造プロセスの排ガス処理を目的とした除害装置です。 常温乾式除害と触媒分解式除害を効率よく組み合わせ、メンテナンス性向上、 ランニングコスト及び環境負荷の低減を可能に致しました。 【特長】 ・本装置はNH3を触媒分解により窒素と水素に分解、完全無害化します。 ・MOを含むGaN製造プロセス排ガス中の有毒ガスを効率的かつ安全に除害します。 ・酸化法によるNH...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社

PFC触媒加熱分解装置

CF4、C2F6、C5F8等のPFCを始め、SF6およびHFCの完全分…

本装置は、CF4、C2F6、C5F8等のPFCを始め、SF6およびHFCの完全分解が可能です。 また、ヒーター加熱方式によりプロパン等の燃焼燃料を必要とせず、 CO2の排出量を最小限に抑えることができます。 【特長】 ・付帯設備を必要としないため、省スペース、低ランニングコストを実現しました。 ・火炎、燃料が不要ですので、高い安全性があります。 ・分解温度が比較的低温のためサー...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社