Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。 最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

高精度 プログラマブル ホットプレート HP-220

必要な機能だけを気軽に使えるエントリーモデル（ユニテンプジャパン株式会…

ドイツUniTemp社の温度コントロールの高性能さはそのままに、 リフローに必要な機能だけを搭載した手軽にお使い頂けるモデルです。 コンパクトで設置も簡単です。 ■最大到達温度250℃ ■窒素ガスパージ可能 ■16ステップの温度プログラムが設定可能 ■対象物の熱容量を自動計算してコントロールするので、 設定通りに温度制御。繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■高い...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

反応型PURホットメルトアプリケーター　B4 Non Stop

反応型PURホットメルトをベストな環境で使用するために設計されたアプリ…

素をパージをする必要がありました。 また、ドラム缶やペール缶メルターは、 缶を交換する間のロスタイムがあります。 しかし、本アプリケーター「B4ノンストップ」は、 ドライエアーも窒素パージも必要なく、 缶の入れ替の待ち時間もありません。 吐出が途切れない、”ノンストップ”型です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ファスト

LGCガス圧力自動切替装置　オートチェンジャー

停電用バイパス回路付き！ガス供給ラインを2系列に分け、どちらか一方の系…

当製品は、液体酸素・液体窒素・液体アルゴン等のLGC容器 （超低温容器）用のガス供給自動切替装置です。 ガス供給ラインを2系列に分け、どちらか一方の系列よりガスを供給し、 一方の系列のガスが無くなると自動的に他の系列に切り替わります。 バイパス切替弁を待機容器側に、バイパス減圧弁を0.1MPa低く セットしておく事で、停電時は待機側の容器からガスを供給します。 【特長】 ...

メーカー・取り扱い企業： ヤマト産業株式会社

ガスコンディショニングユニット

ターボコンプレッサー向けノンコンタクト！窒素供給モジュールの搭載も可能

当社が取り扱う、ガスシール用の『ガスコンディショニングユニット』を ご紹介します。 プロセスと作動状況によって、ガスシールユニット（GCU）モジュールを 標準のジョン･クレーンガスシールシステムに追加することで、ガスシールを より安全に保護する、統合したシステムの提供が可能。 各システムには適切な設計モジュールが組み込まれ、通常ならびに過渡状態での コンプレッサーの信頼性と性能...

メーカー・取り扱い企業： 日本ジョン・クレーン株式会社

めっきシミュレーター

溶融めっきプロセスの諸条件を任意設定し、生産ラインでの操業条件をラボ実…

【特長】 ■加熱部には、近赤外線ヒーターを両面に配置し、急速で且つ均等加熱に 　より、試験片の変形を極力抑えます。 ■チャンバー内は窒素パージにより酸素濃度10ppm以下を実現 ■酸素濃度及び露点計測機能付き ■目付量調整はワイパーノズルの距離及びガス流量による ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合...

メーカー・取り扱い企業： 日鉄テックスエンジ株式会社 ロボティクス事業部

【ロール搬送対応！自己シールドEB照射システム！】EB SR-1

既存の搬送設備に搭載可能なEB照射システム！

【特長】 ■EBインク対応 開始剤レスでマイグレーションや匂い無し 低温プロセス・高い密着性 窒素ガスパージ機構搭載 ■ロールtoロール対応 シングルパスのインクジェット印刷機に対応 ■多用途で活用 キュアリング・架橋・滅菌等 印刷以外の用途にもアドオンで使用可能 前後搬送機との連動機能あり ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...【仕様・スペック】 ■EB部（...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トライテック

Φ12対応　高速アニール加熱システム VPO-1000-300

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルの プロセスも可能。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの 新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、 卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、 多目的にお使い頂けます。 【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、 　高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本の...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

0395　粒状燃料の酸化防止Ｎ2パージ用に

円筒形タンクの槽底にブローディスクを設置していただいた事例

ブリッジやラットホールの解消目的とは異なるご採用例です。 内容物は粒から数mm程度の燃料で、酸化による発熱防止のため窒素ガスパージを行う必要があるのですが、タンク内に均一にガスが行き渡ることを期待してブローディスクをご採用いただくこととなりました。 基本的に常時ガスパージを希望されましたが、常時ガスを流すとなると消費量が多大になりますし、かといってパージ圧力を絞るとガスの拡散にもマイナ...

メーカー・取り扱い企業： ミナギ株式会社