【事例】シリコンウエハー（半導体）洗浄のメカニズム

洗浄できている面積割合が、92％に到達することを明らかにした事例のご紹…

1ミクロン以上の微粒子が除去され観察されなくなったこと、また、 洗浄できている面積割合が、92％に到達することを明らかにしました。 【洗浄効果】 ■洗浄前：359～472um2 ■超純水洗浄後：320～482um2 ■超純水ジェット＋ウルトラファインバブル洗浄後 ・1000倍画像：28.65um2 ・3000倍画像：37.33um2 ※事例の詳細内容は、関連リンクより閲...

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