有限会社OKエンジニアリング 【事例】シリコンウエハー(半導体)洗浄のメカニズム

洗浄できている面積割合が、92%に到達することを明らかにした事例のご紹介です!

シリコンウエハー洗浄のメカニズムに関する事例をご紹介します。

ウルトラファインバブルの内部が高圧になる特性を利用して、
圧力波により固体表面の微粒子を除去する効果を実験的に検証。

1ミクロン以上の微粒子が除去され観察されなくなったこと、また、
洗浄できている面積割合が、92%に到達することを明らかにしました。

【洗浄効果】
■洗浄前:359~472um2
■超純水洗浄後:320~482um2
■超純水ジェット+ウルトラファインバブル洗浄後
・1000倍画像:28.65um2
・3000倍画像:37.33um2

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基本情報【事例】シリコンウエハー(半導体)洗浄のメカニズム

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カタログ【事例】シリコンウエハー(半導体)洗浄のメカニズム

取扱企業【事例】シリコンウエハー(半導体)洗浄のメカニズム

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有限会社OKエンジニアリング

<マイクロバブル発生ノズル、装置の研究・開発>  新型ループ流式マイクロバブル発生ノズルを開発。  このノズルはシャワーホースに取り付け可能で●浴槽 に入れるとマイクロバブルバスに●浴槽の中でエアーを 自吸させると簡易ジャグジーに●マイクロバブルシャワ ーに●エアーを自吸させるとバブルシャワーとなり脈動 で強弱がある。家庭用から工業用と広く応用可能。  今回開発したノズルは、既存のマイクロバブル発生メカニズムと異なります。「新型ノズル」は、名づけて複合的多段階乱流方式=ループ流方式です。既存のノズルと比較して、機能性、シンプルさ、価格を総合的に判断すると高い評価を得るものと思います。  新型ノズルは真空度が高いのが特徴です。50個ほど試作した中で一番真空度の高いノズルは−0.087Mpaもあり、87%の真空度になります。この時の流入水圧は0.3Mpaでした。  新型ノズルから水道水を噴射すると「ほんのり薄い白い濁り」に見えます。水よりお湯のほうが白く濁ります。これで十分マイクロバブルは発生しています。  詳しくはホームページをご覧ください。

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