有限会社OKエンジニアリング 【事例】シリコンウエハー（半導体）洗浄のメカニズム
- 最終更新日：2022-07-04 17:10:01.0
- 印刷用ページ
シリコンウエハー洗浄のメカニズムに関する事例をご紹介します。
ウルトラファインバブルの内部が高圧になる特性を利用して、
圧力波により固体表面の微粒子を除去する効果を実験的に検証。
1ミクロン以上の微粒子が除去され観察されなくなったこと、また、
洗浄できている面積割合が、92％に到達することを明らかにしました。
【洗浄効果】
■洗浄前：359～472um2
■超純水洗浄後：320～482um2
■超純水ジェット＋ウルトラファインバブル洗浄後
・1000倍画像：28.65um2
・3000倍画像：37.33um2
※事例の詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。
詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報【事例】シリコンウエハー（半導体）洗浄のメカニズム
※事例の詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。
詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※事例の詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ【事例】シリコンウエハー（半導体）洗浄のメカニズム
取扱企業【事例】シリコンウエハー（半導体）洗浄のメカニズム
-
-
＜マイクロバブル発生ノズル、装置の研究・開発＞ 新型ループ流式マイクロバブル発生ノズルを開発。 このノズルはシャワーホースに取り付け可能で●浴槽 に入れるとマイクロバブルバスに●浴槽の中でエアーを 自吸させると簡易ジャグジーに●マイクロバブルシャワ ーに●エアーを自吸させるとバブルシャワーとなり脈動 で強弱がある。家庭用から工業用と広く応用可能。 今回開発したノズルは、既存のマイクロバブル発生メカニズムと異なります。「新型ノズル」は、名づけて複合的多段階乱流方式＝ループ流方式です。既存のノズルと比較して、機能性、シンプルさ、価格を総合的に判断すると高い評価を得るものと思います。 新型ノズルは真空度が高いのが特徴です。50個ほど試作した中で一番真空度の高いノズルは−0.08７Mpaもあり、８７％の真空度になります。この時の流入水圧は0.3Mpaでした。 新型ノズルから水道水を噴射すると「ほんのり薄い白い濁り」に見えます。水よりお湯のほうが白く濁ります。これで十分マイクロバブルは発生しています。 詳しくはホームページをご覧ください。
【事例】シリコンウエハー（半導体）洗浄のメカニズムへのお問い合わせ
お問い合わせ内容をご記入ください。
